| 摘要 | 第1-9页 |
| ABSTRACT | 第9-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-24页 |
| ·引言 | 第10页 |
| ·ZnO 薄膜的结构与基本特性 | 第10-12页 |
| ·ZnO 的晶体结构 | 第10-11页 |
| ·ZnO 的基本性质 | 第11-12页 |
| ·掺杂 ZnO 薄膜的研究 | 第12-20页 |
| ·ZnO 的 n 型掺杂 | 第13-14页 |
| ·ZnO 的 p 型掺杂 | 第14-18页 |
| ·ZnO 的磁性掺杂 | 第18-20页 |
| ·ZnO 薄膜的应用 | 第20-22页 |
| ·选题依据及研究内容 | 第22-24页 |
| ·选题背景 | 第22页 |
| ·主要研究内容 | 第22-24页 |
| 第2章 ZnO 薄膜的制备方法及表征手段 | 第24-32页 |
| ·薄膜的制备方法 | 第24-27页 |
| ·磁控溅射法 | 第24-26页 |
| ·金属有机化学气相沉积法 | 第26页 |
| ·溶胶—凝胶法 | 第26页 |
| ·脉冲激光沉积法 | 第26-27页 |
| ·分子束外延法 | 第27页 |
| ·表征设备 | 第27-32页 |
| ·X 射线衍射仪 | 第27-28页 |
| ·紫外—可见分光光度计 | 第28页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第28-29页 |
| ·霍尔测试仪 | 第29-30页 |
| ·超导量子干涉仪 | 第30-32页 |
| 第3章 Cu 掺杂 ZnO 薄膜结构及光电性能研究 | 第32-39页 |
| ·实验方法 | 第32页 |
| ·结果与讨论 | 第32-38页 |
| ·结构分析 | 第32-35页 |
| ·光学特性分析 | 第35-36页 |
| ·电学特性分析 | 第36-38页 |
| ·结论 | 第38-39页 |
| 第4章 缓冲层和不同气氛下退火对 Cu 掺杂 ZnO 薄膜磁性的影响 | 第39-46页 |
| ·实验 | 第39-40页 |
| ·结果与分析 | 第40-45页 |
| ·结构分析 | 第40-43页 |
| ·电学特性分析 | 第43-44页 |
| ·磁性分析 | 第44-45页 |
| ·结论 | 第45-46页 |
| 结束语 | 第46-48页 |
| 致谢 | 第48-49页 |
| 参考文献 | 第49-55页 |
| 作者在学期间取得的学术成果 | 第55页 |