| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-7页 |
| 1 绪论 | 第7-14页 |
| ·红外技术的发展 | 第7页 |
| ·本课题研究的目的及意义 | 第7-11页 |
| ·研究现状 | 第11-14页 |
| ·高效红外增透膜研究方面 | 第11-12页 |
| ·类金刚石膜的研究方面 | 第12-14页 |
| 2 红外技术 | 第14-19页 |
| ·基本概念 | 第14页 |
| ·发展概况 | 第14-15页 |
| ·主要应用 | 第15-19页 |
| ·红外夜视 | 第15-16页 |
| ·红外侦察 | 第16页 |
| ·红外制导 | 第16-17页 |
| ·红外对抗 | 第17-19页 |
| 3 薄膜设计的理论基础 | 第19-29页 |
| ·基本原理 | 第19-23页 |
| ·多层膜原理 | 第23-29页 |
| 4 红外增透膜(8-12μm)膜系设计 | 第29-40页 |
| ·设计要求的技术指标 | 第29页 |
| ·膜料的选择 | 第29-31页 |
| ·对镀膜材料的具体要求 | 第29-30页 |
| ·几种常用膜料的性质 | 第30页 |
| ·本设计中膜料的选择 | 第30-31页 |
| ·膜系结构的确定 | 第31-38页 |
| ·锗基底8-12um波段高效红外增透膜的几种设计方法 | 第31-34页 |
| ·根据上面两种方法的分析进行最后膜系的确定 | 第34-38页 |
| ·膜系设计中逐步寻优思想的提出 | 第38-40页 |
| 5 镀膜基片的制备 | 第40-51页 |
| ·所用设备及其原理 | 第40-43页 |
| ·真空镀膜机的工作原理及装置配置 | 第40页 |
| ·本论文所使用的真空镀膜设备 | 第40-42页 |
| ·膜厚监控 | 第42-43页 |
| ·宽带增透膜的制备工艺因素分析与制定 | 第43-47页 |
| ·影响镀膜质量的各种因素 | 第43-46页 |
| ·高效红外增透膜的制备工艺优选 | 第46-47页 |
| ·膜厚监控 | 第47页 |
| ·膜系的制备过程 | 第47-51页 |
| ·介质+DLC膜的镀制过程 | 第47-49页 |
| ·红外高效增透膜的镀制过程 | 第49-51页 |
| 6 膜片测试及结果分析 | 第51-54页 |
| ·测试结果 | 第51-52页 |
| ·主要工艺因素及结果分析 | 第52-54页 |
| 7 研究结论 | 第54-56页 |
| ·结论 | 第54-55页 |
| ·对类金刚石红外增透保护膜研究的进一步看法 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-58页 |
| 致谢 | 第58-60页 |