基于电化学光整加工的机械密封工作面密封性能的研究
摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-9页 |
一、绪论 | 第9-19页 |
·机械密封的意义及其地位 | 第9-10页 |
·机械密封发展历程与研究现状 | 第10-13页 |
·课题背景 | 第13-19页 |
二、机械密封及电化学光整加工基础 | 第19-34页 |
·接触式机械密封 | 第19-20页 |
·非接触式机械密封 | 第20-22页 |
·气膜密封 | 第20-21页 |
·液膜密封 | 第21-22页 |
·机械密封性能参数 | 第22-25页 |
·机械密封材料的选择 | 第25-28页 |
·动、静环摩擦副材料 | 第26-27页 |
·辅助密封件材料 | 第27-28页 |
·弹性元件材料 | 第28页 |
·机械密封的优势与缺陷 | 第28-29页 |
·电化学光整加工的基本理论 | 第29-34页 |
·电化学光整加工机理 | 第30-32页 |
·电化学光整加工的特点 | 第32-34页 |
三、电化学光整加工表面摩擦特性的试验研究 | 第34-39页 |
·电化学光整加工试验 | 第34-37页 |
·试验设备及材料 | 第34-35页 |
·试验方案的拟定 | 第35页 |
·试验过程 | 第35-37页 |
·金相组织分析 | 第37-39页 |
四、摩擦磨损特性试验研究及分析 | 第39-45页 |
·试验目的 | 第39页 |
·摩擦磨损试验研究 | 第39-42页 |
·试验数据分析 | 第42-43页 |
·试件表面微观形貌分析 | 第43-45页 |
五、螺旋槽机械密封密封性能的数值模拟 | 第45-49页 |
·螺旋槽机械密封性能的理论分析 | 第45-47页 |
·螺旋槽机械密封性能的数值模拟 | 第47-49页 |
六、结论与展望 | 第49-51页 |
·结论 | 第49-50页 |
·展望 | 第50-51页 |
参考文献 | 第51-55页 |
致谢 | 第55页 |