纳米碳化硅薄膜发光机制研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-15页 |
| ·纳米碳化硅材料研究意义 | 第9页 |
| ·碳化硅材料的结构及基本性质 | 第9-11页 |
| ·纳米碳化硅薄膜发光研究进展 | 第11-14页 |
| ·纳米碳化硅薄膜发光国内外研究工作 | 第12-13页 |
| ·纳米碳化硅薄膜发光的几种模型 | 第13-14页 |
| ·本论文研究意义及所做工作 | 第14-15页 |
| 第2章 薄膜分析测试方法 | 第15-21页 |
| ·薄膜微结构特征分析技术 | 第15-17页 |
| ·傅立叶变换红外吸收谱(FTIR) | 第15页 |
| ·喇曼光谱(Raman) | 第15-16页 |
| ·透射电子显微镜(TEM) | 第16页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第16-17页 |
| ·薄膜光学特性分析技术 | 第17-21页 |
| ·紫外-可见吸收光谱 | 第17-18页 |
| ·光致发光谱(PL) | 第18-19页 |
| ·光致发光激发光谱(PLE) | 第19-20页 |
| ·光致发光时间衰减谱 | 第20页 |
| ·低温光致发光谱 | 第20-21页 |
| 第3章 纳米碳化硅薄膜微结构及光吸收特性研究 | 第21-29页 |
| ·纳米碳化硅薄膜制备 | 第21页 |
| ·纳米碳化硅薄膜微结构表征 | 第21-26页 |
| ·FTIR谱分析 | 第21-23页 |
| ·Raman谱分析 | 第23-24页 |
| ·TEM分析 | 第24-25页 |
| ·XRD分析 | 第25-26页 |
| ·纳米碳化硅薄膜光吸收特性 | 第26-28页 |
| ·本章小结 | 第28-29页 |
| 第4章 纳米碳化硅薄膜发光机制研究 | 第29-43页 |
| ·不同气体流量比纳米碳化硅薄膜光致发光谱 | 第29-30页 |
| ·近化学计量比条件薄膜发光机制研究 | 第30-37页 |
| ·薄膜PL及PLE谱特性分析 | 第30-31页 |
| ·薄膜中载流子产生和辐射复合机制探讨 | 第31-34页 |
| ·纳米碳化硅量子限制效应发光 | 第34-37页 |
| ·近化学计量比薄膜发光机制小结 | 第37页 |
| ·富硅和富碳条件薄膜发光机制研究 | 第37-41页 |
| ·富硅、富碳条件对薄膜量子限制效应发光的影响 | 第38-39页 |
| ·富硅缺陷发光特性 | 第39-40页 |
| ·富碳缺陷发光特性 | 第40-41页 |
| ·本章小结 | 第41-43页 |
| 第5章 纳米碳化硅薄膜发光动力学过程研究 | 第43-49页 |
| ·近化学计量比薄膜的发光衰减过程 | 第43-46页 |
| ·近化学计量比薄膜的发光温度效应 | 第46-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 结束语 | 第49-51页 |
| 参考文献 | 第51-55页 |
| 致谢 | 第55页 |
