p型ZnO薄膜的制备及其光电特性研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 第1章 绪论 | 第8-17页 |
| ·研究目的和意义 | 第8-10页 |
| ·ZnO薄膜的结构和特性 | 第10-12页 |
| ·ZnO薄膜中的缺陷和杂质 | 第12-14页 |
| ·本征ZnO中的缺陷 | 第12-14页 |
| ·掺杂ZnO中的缺陷 | 第14页 |
| ·国内外ZnO薄膜的研究现状 | 第14-15页 |
| ·ZnO的p型掺杂和PN结的制作 | 第14-15页 |
| ·缺陷行为和载流子输运特性的研究 | 第15页 |
| ·利用ZnO制作紫外半导体激光器 | 第15页 |
| ·高质量ZnO薄膜的生长和现有器件的改进 | 第15页 |
| ·本论文所做工作 | 第15-17页 |
| 第2章 实验原理和特性检测技术 | 第17-23页 |
| ·ZnO薄膜制备的实验原理和实验装置 | 第17-19页 |
| ·螺旋波等离子体基本原理 | 第17-18页 |
| ·实验装置 | 第18页 |
| ·衬底的清洗 | 第18-19页 |
| ·ZnO薄膜的特性检测技术 | 第19-23页 |
| ·X射线衍射(XRD)技术 | 第19-20页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第20页 |
| ·拉曼(Raman)光谱 | 第20-21页 |
| ·紫外-可见透射光谱(UV-VIS) | 第21-22页 |
| ·霍尔(Hall)测量 | 第22-23页 |
| 第3章 外延ZnO薄膜的制备 | 第23-30页 |
| ·ZnO薄膜的制备条件 | 第23-24页 |
| ·ZnO薄膜微观结构和光学特性分析 | 第24-30页 |
| ·ZnO薄膜的X射线衍射分析 | 第24-25页 |
| ·ZnO薄膜的ω扫描分析 | 第25-26页 |
| ·ZnO薄膜的φ描分析 | 第26-27页 |
| ·ZnO薄膜的AFM表面形貌分析 | 第27-28页 |
| ·ZnO薄膜的紫外-可见透射光谱分析 | 第28-29页 |
| ·小结 | 第29-30页 |
| 第4章 p型ZnO薄膜的制备及其特性研究 | 第30-45页 |
| ·不同工作气压下p型ZnO薄膜的制备 | 第30-39页 |
| ·p型ZnO薄膜的电学性质分析 | 第30-32页 |
| ·p型ZnO薄膜的X射线衍射分析 | 第32-33页 |
| ·p型ZnO薄膜的ω扫描分析 | 第33-34页 |
| ·p型ZnO薄膜的φ扫描分析 | 第34-35页 |
| ·p型ZnO薄膜的Raman光谱分析 | 第35-36页 |
| ·p型ZnO薄膜的紫外-可见透射光谱分析 | 第36-37页 |
| ·p型ZnO薄膜的表面形貌分析 | 第37-39页 |
| ·加气环低气压下ZnO薄膜的制备及特性分析 | 第39-45页 |
| ·不同氧氩比ZnO薄膜的X射线衍射分析 | 第39-41页 |
| ·不同氧氩比ZnO薄膜的电学性质分析 | 第41-42页 |
| ·不同氧氩比ZnO薄膜的紫外-可见透射光谱分析 | 第42-43页 |
| ·小结 | 第43-45页 |
| 第5章 N掺杂ZnO薄膜的制备及掺杂机理分析 | 第45-49页 |
| ·N掺杂ZnO薄膜X射线衍射的0-20扫描分析 | 第45-46页 |
| ·N掺杂ZnO薄膜紫外-可见透射光谱分析 | 第46-47页 |
| ·N掺杂ZnO薄膜电学性质分析 | 第47-48页 |
| ·小结 | 第48-49页 |
| 结束语 | 第49-51页 |
| 参考文献 | 第51-55页 |
| 致谢 | 第55页 |
