| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-17页 |
| ·研究意义 | 第9-10页 |
| ·纳米SiC的结构特性 | 第10-12页 |
| ·纳米SiC的应用前景 | 第12-13页 |
| ·纳米SiC材料合成以及其发光特性的研究进展 | 第13-15页 |
| ·当前主要存在问题和本文主要工作 | 第15-17页 |
| 第2章 实验原理及技术 | 第17-24页 |
| ·实验技术 | 第17-18页 |
| ·螺旋波等离子体增强化学气相沉积(HWP-CVD)实验装置 | 第17-18页 |
| ·衬底处理 | 第18页 |
| ·薄膜的形貌和结构分析技术 | 第18-21页 |
| ·傅立叶变换红外吸收谱(FTIR) | 第18-19页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第19页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第19-20页 |
| ·透射电子显微镜(TEM) | 第20页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第20-21页 |
| ·薄膜的光学特性表征技术 | 第21-24页 |
| ·紫外-可见透射反射谱(UV-VIS Transmission and Reflection) | 第21-22页 |
| ·光致发光谱(PL) | 第22-24页 |
| 第3章 纳米SiC薄膜的微观结构及其发光特性 | 第24-43页 |
| ·样品制备条件 | 第24页 |
| ·馈入功率对纳米SiC薄膜微观结构及发光的影响 | 第24-33页 |
| ·薄膜的沉积速率 | 第24-25页 |
| ·红外表征 | 第25-27页 |
| ·薄膜的AFM形貌分析 | 第27-29页 |
| ·XRD和TEM分析 | 第29-30页 |
| ·光吸收特性 | 第30-32页 |
| ·发光特性 | 第32-33页 |
| ·氢气流量对薄膜结构和光学特性的影响 | 第33-42页 |
| ·薄膜的沉积速率 | 第34-35页 |
| ·红外表征 | 第35-38页 |
| ·AFM形貌分析 | 第38-39页 |
| ·光学特性分析 | 第39-41页 |
| ·光致发光 | 第41-42页 |
| ·小结 | 第42-43页 |
| 第4章 纳米SiC多层薄膜结构设计 | 第43-50页 |
| ·多层膜的制备条件 | 第44页 |
| ·紫外-可见吸收谱分析 | 第44-45页 |
| ·SEM分析 | 第45-46页 |
| ·FTIR分析 | 第46页 |
| ·光致发光分析 | 第46-49页 |
| ·小结 | 第49-50页 |
| 第5章 结束语 | 第50-52页 |
| 参考文献 | 第52-56页 |
| 致谢 | 第56页 |