用脉冲激光沉积法在硅衬底上生长LiNbO3薄膜的研究
| 中文摘要 | 第1-6页 |
| 英文摘要 | 第6-7页 |
| 第一章 引言 | 第7-9页 |
| 第二章 文献综述 | 第9-19页 |
| 2-1 LN的结构和物理性质 | 第9-10页 |
| 2-2 LN晶体及薄膜的物理性质及应用 | 第10-12页 |
| 2-3 异质LN薄膜的生长技术 | 第12-16页 |
| 2-4 衬底对生长LN薄膜的影响 | 第16-19页 |
| 第三章 激光脉冲沉积（PLD）的原理 | 第19-25页 |
| 3-1 概述 | 第19-20页 |
| 3-2 PLD的基本原理 | 第20-25页 |
| 第四章 LN薄膜的生长工艺 | 第25-30页 |
| 4-1 PLD薄膜生长实验系统简介 | 第25-27页 |
| 4-2 LN薄膜的生长工艺 | 第27-30页 |
| 第五章 不同条件对生长LN薄膜的影响 | 第30-43页 |
| 5-1 生长气氛 | 第30-32页 |
| 5-2 衬底温度对生长LN薄膜的影响 | 第32-35页 |
| 5-3 氧压对生长LN薄膜的影响 | 第35-37页 |
| 5-4 激光重复频率对生长LN薄膜的影响 | 第37-38页 |
| 5-5 在不同的衬底上生长LN薄膜 | 第38-41页 |
| 5-6 衬底和靶的距离对生长LN薄膜的影响 | 第41-43页 |
| 第六章 LN薄膜的微结构及光学性能的研究 | 第43-51页 |
| 6-1 LN薄膜晶体质量的研究 | 第43-48页 |
| 6-2 LN薄膜光学性能的研究 | 第48-51页 |
| 第七章 结论 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-55页 |
| 致谢 | 第55页 |
