| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 1 绪论 | 第8-18页 |
| ·研究背景 | 第8-11页 |
| ·现有超光滑表面加工方法 | 第11-15页 |
| ·机械抛光法 | 第11-12页 |
| ·机械-化学抛光法 | 第12-14页 |
| ·场效应辅助抛光法 | 第14页 |
| ·其他抛光方法 | 第14-15页 |
| ·等离子体抛光技术 | 第15-17页 |
| ·真空等离子体抛光技术 | 第15-16页 |
| ·常压等离子抛光技术 | 第16-17页 |
| ·研究的主要内容 | 第17页 |
| ·论文结构安排 | 第17-18页 |
| 2 等离子体抛光机理研究的理论基础 | 第18-27页 |
| ·等离子体抛光的基本概念 | 第18-22页 |
| ·等离子的生成方法 | 第22-25页 |
| ·直流放电等离子的生成方法 | 第22-23页 |
| ·交流放电等离子的生成方法 | 第23-25页 |
| ·射频电容耦合放电等离子体 | 第25-27页 |
| 3 等离子体的诊断技术 | 第27-36页 |
| ·静电探针诊断技术 | 第27-31页 |
| ·阻抗测量法 | 第31-32页 |
| ·微波诊断技术 | 第32-33页 |
| ·光谱诊断技术 | 第33-34页 |
| ·其他方法 | 第34-36页 |
| 4 实验系统 | 第36-43页 |
| ·低压等离子体抛光实验平台 | 第36-38页 |
| ·等离子体诊断装置 | 第38-41页 |
| ·朗缪尔探针诊断装置 | 第38-39页 |
| ·发射光谱诊断装置 | 第39-41页 |
| ·表面检测装置 | 第41-43页 |
| 5 实验与结果分析 | 第43-62页 |
| ·石英基片的预处理 | 第43-44页 |
| ·Ar等离子体的溅射效果研究 | 第44-51页 |
| ·Ar等离子体的抛光效果 | 第44-46页 |
| ·Ar等离子体的诊断 | 第46-51页 |
| ·Ar/SF_6等离子体的抛光效果研究 | 第51-53页 |
| ·Ar/O_2等离子体的抛光效果研究 | 第53-55页 |
| ·O_2与SF_6比例对样片粗糙度及抛光速率的影响 | 第55-62页 |
| 6 结论 | 第62-64页 |
| 参考文献 | 第64-70页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第70-71页 |
| 致谢 | 第71-73页 |