光学薄膜微结构制造方法研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-17页 |
| ·课题研究的背景及意义 | 第9页 |
| ·课题研究的背景 | 第9页 |
| ·课题研究的目的和意义 | 第9页 |
| ·课题相关国内外研究现状 | 第9-15页 |
| ·自组织纳米微结构 | 第9-10页 |
| ·自组装纳米微结构制备方法 | 第10-12页 |
| ·离子束刻蚀的理论基础 | 第12-14页 |
| ·低能离子束刻蚀自组织纳米结构 | 第14-15页 |
| ·研究内容 | 第15-16页 |
| ·本文内容安排 | 第16-17页 |
| 2 研究方案及可行性分析 | 第17-19页 |
| ·技术路线 | 第17-18页 |
| ·可行性分析 | 第18-19页 |
| 3 薄膜制备技术研究 | 第19-24页 |
| ·离子束辅助热蒸发技术 | 第19-21页 |
| ·宽束冷阴极离子源 | 第19-20页 |
| ·离子束辅助热蒸发 | 第20-21页 |
| ·实验设备 | 第21页 |
| ·工艺参数的选择 | 第21-22页 |
| ·工艺流程 | 第22-24页 |
| 4 薄膜特性检测技术 | 第24-31页 |
| ·薄膜表面形貌 | 第24-26页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第24-25页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第25-26页 |
| ·薄膜表面粗糙度 | 第26-27页 |
| ·薄膜光学常数 | 第27-29页 |
| ·薄膜反射率 | 第29-31页 |
| 5 实验方案与结果分析 | 第31-76页 |
| ·实验方案 | 第31页 |
| ·离子束辅助沉积的研究 | 第31-53页 |
| ·离子束能量的影响 | 第31-40页 |
| ·离子束束流的影响 | 第40-49页 |
| ·沉积温度的影响 | 第49-52页 |
| ·实验结论 | 第52-53页 |
| ·离子束辅助结束后继续沉积银的研究 | 第53-64页 |
| ·离子束能量的影响 | 第53-56页 |
| ·离子束束流的影响 | 第56-59页 |
| ·沉积温度的影响 | 第59-60页 |
| ·表面扩散因素的影响 | 第60-63页 |
| ·实验结论 | 第63-64页 |
| ·离子束辅助沉积后继续离子束刻蚀的研究 | 第64-76页 |
| ·离子束辅助作用时间的影响 | 第66-72页 |
| ·沉积温度的影响 | 第72-75页 |
| ·实验结论 | 第75-76页 |
| 6 结论 | 第76-77页 |
| ·结论 | 第76页 |
| ·展望 | 第76-77页 |
| 参考文献 | 第77-81页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第81-82页 |
| 致谢 | 第82-84页 |
