| 第一章 引言 | 第1-18页 |
| ·硅基波导薄膜制备技术 | 第7-12页 |
| ·课题的提出和本论文的内容 | 第12-14页 |
| 参考文献 | 第14-18页 |
| 第二章 Sol-gel 法制备纯 SiO_2薄膜的原理和过程 | 第18-47页 |
| ·样品制备的实验原理 | 第18-24页 |
| ·Si 基纯SiO_2薄膜材料Sol-Gel 法制备过程 | 第24-26页 |
| ·不同实验条件对Sol-Gel 法制备SiO_2薄膜材料的影响 | 第26-39页 |
| ·Si 片基底的处理 | 第26-27页 |
| ·水和TEOS 的摩尔比 | 第27-30页 |
| ·PH 值对胶体的影响 | 第30页 |
| ·醇类稳定剂的影响 | 第30-32页 |
| ·甩胶过程 | 第32-33页 |
| ·干燥条件 | 第33-34页 |
| ·热处理过程 | 第34-39页 |
| ·SiO_2薄膜材料特性分析 | 第39-43页 |
| ·用XPS 图测量SiO_2薄膜的组分 | 第39-40页 |
| ·XRD 图测量SiO_2薄膜结构形态 | 第40-42页 |
| ·厚度测量 | 第42-43页 |
| 本章小结 | 第43-45页 |
| 参考文献 | 第45-47页 |
| 第三章 Sol-gel 法磷硅酸盐薄膜材料的制备 | 第47-60页 |
| ·实验准备 | 第47-49页 |
| ·磷硅酸盐胶体制备过程 | 第49-50页 |
| ·磷硅酸盐薄膜制备过程 | 第50-52页 |
| ·磷硅酸盐薄膜材料样品的表征 | 第52-57页 |
| ·波导模式理论计算 | 第57-58页 |
| 本章小结 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-60页 |
| 第四章 结论与展望 | 第60-62页 |
| ·实验工作总结 | 第60-61页 |
| ·展望 | 第61-62页 |
| 中文摘要 | 第62-64页 |
| 英文摘要 | 第64-66页 |
| 致谢 | 第66-67页 |
| 导师及作者简介 | 第67-69页 |
| 在国内外发表的文章 | 第69页 |
| 参加的科研项目 | 第69页 |