透明导电薄膜与微细图形的制备
| 第一章 文献综述 | 第1-25页 |
| ·透明导电薄膜概述 | 第8-9页 |
| ·氧化物透明导电薄膜制备方法简介 | 第9-15页 |
| ·化学气相沉积工艺 | 第9-10页 |
| ·喷涂热解工艺 | 第10页 |
| ·溅射工艺 | 第10-11页 |
| ·蒸发工艺 | 第11页 |
| ·溶胶-凝胶技术 | 第11-15页 |
| ·ITO透明导电薄膜的结构和性能 | 第15-21页 |
| ·ITO薄膜的结构 | 第15页 |
| ·ITO薄膜的性能 | 第15-20页 |
| ·ITO薄膜的研究现状 | 第20-21页 |
| ·SnO_2透明导电薄膜的结构和性能 | 第21-23页 |
| ·SnO_2薄膜的结构 | 第21页 |
| ·SnO_2薄膜的性能 | 第21-23页 |
| ·透明导电薄膜微细图形加工技术 | 第23页 |
| ·本文的主要研究工作 | 第23-25页 |
| 第二章 SnO_2透明导电薄膜光学及电学性能研究 | 第25-42页 |
| ·概述 | 第25页 |
| ·实验方法 | 第25-30页 |
| ·实验设备及器材 | 第25-27页 |
| ·溶胶体系的选用 | 第27-28页 |
| ·SnO_2溶胶的配制 | 第28-29页 |
| ·浸渍提拉法制SnO_2薄膜 | 第29-30页 |
| ·薄膜的热处理 | 第30-41页 |
| ·薄膜制备的两种工艺研究 | 第31-33页 |
| ·正交实验及实验结果 | 第33-37页 |
| ·热处理温度对SnO_2薄膜性能的影响研究 | 第37-39页 |
| ·掺杂量对SnO_2薄膜性能的影响研究 | 第39-41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 第三章 ITO透明导电薄膜的制备 | 第42-56页 |
| ·概述 | 第42页 |
| ·ITO薄膜的制备 | 第42-44页 |
| ·溶胶体系的选用 | 第42页 |
| ·ITO溶胶的配制 | 第42-44页 |
| ·ITO薄膜的制取 | 第44页 |
| ·正交实验 | 第44-48页 |
| ·热处理工艺对ITO薄膜性能的影响研究 | 第48-49页 |
| ·热处理温度对ITO薄膜性能的影响研究 | 第49-51页 |
| ·掺杂量对ITO薄膜性能的影响研究 | 第51-53页 |
| ·厚度对ITO薄膜性能的影响研究 | 第53-54页 |
| ·本章小结 | 第54-56页 |
| 第四章 SnO_2薄膜微细图形的制备 | 第56-64页 |
| ·微细图形加工概述 | 第56-57页 |
| ·微细加工工艺 | 第57-58页 |
| ·二氧化锡凝胶薄膜微细图形的制备 | 第58-63页 |
| ·感光性溶胶的制备 | 第58-59页 |
| ·ITO凝胶薄膜的感光性 | 第59-61页 |
| ·SnO_2凝胶薄膜微细图形加工 | 第61-63页 |
| ·本章小结 | 第63-64页 |
| 第五章 结论 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-72页 |
| 作者在硕士期间撰写和发表的论文 | 第72页 |
