喷雾热解法制备氧化物基涂层低辐射玻璃的研究
摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-11页 |
1 绪论 | 第11-24页 |
·低辐射玻璃的发展与现状 | 第11页 |
·Low-E玻璃的节能原理 | 第11-14页 |
·Low-E玻璃的种类 | 第14-15页 |
·电介质/金属/电介质多层复合Low-E玻璃 | 第14页 |
·半导体单层膜Low-E玻璃 | 第14-15页 |
·镀膜玻璃的制备技术 | 第15-19页 |
·磁控溅射法 | 第15页 |
·化学气相沉积法(CVD) | 第15-16页 |
·喷雾热解法 | 第16-19页 |
·Low-E玻璃的表面改性 | 第19-20页 |
·薄膜的光催化特性 | 第19页 |
·TiO_2光催化的基本原理 | 第19-20页 |
·Low-E玻璃制备技术的现状 | 第20页 |
·浮法玻璃在线镀膜技术 | 第20-23页 |
·本课题的意义 | 第23-24页 |
2 实验方法 | 第24-33页 |
·研究思路 | 第24页 |
·研究内容及创新点 | 第24-25页 |
·SnO_2系溶胶的配制 | 第25-26页 |
·喷雾热解法的实验装置 | 第26-27页 |
·其他实验设备 | 第27页 |
·测试仪器 | 第27-29页 |
·薄膜性能测试 | 第29-33页 |
·测量薄膜厚度的方法 | 第29-31页 |
·光学、热工学国标测试 | 第31-33页 |
3 SnO_2:(Sb+F)系薄膜的研究 | 第33-55页 |
·前言 | 第33页 |
·掺杂浓度对薄膜光电性能的影响 | 第33-37页 |
·掺Sb浓度对薄膜光电性能的影响 | 第33-34页 |
·掺F浓度对薄膜光电性能的影响 | 第34-35页 |
·F、Sb复合掺杂研究 | 第35-37页 |
·沉积温度对薄膜性能的影响 | 第37-39页 |
·沉积温度对薄膜电学性能的影响 | 第37页 |
·沉积温度对薄膜光学性能的影响 | 第37-38页 |
·沉积温度对薄膜结构和形貌的影响 | 第38-39页 |
·液流量对薄膜性能的影响 | 第39-42页 |
·液流量对薄膜光学性能的影响 | 第39-40页 |
·液流量对薄膜结构形貌的影响 | 第40-42页 |
·膜厚对薄膜性能的影响 | 第42-45页 |
·膜厚对薄膜光学性质的影响 | 第42-43页 |
·膜厚对薄膜电学性质的影响 | 第43页 |
·低辐射性能 | 第43-45页 |
·SnO_2:(Sb+F)系薄膜的结构与成分 | 第45-48页 |
·物相分析与表面形貌 | 第45-47页 |
·薄膜的成分及化学状态分析 | 第47-48页 |
·成膜机理的讨论 | 第48-54页 |
·成膜机理的假设 | 第49页 |
·验证实验的设计 | 第49-54页 |
·小结 | 第54-55页 |
4 多层复合薄膜制备及性能研究 | 第55-70页 |
·前言 | 第55页 |
·纳米多层膜结构及其功能设计 | 第55-56页 |
·多层薄膜的制备 | 第56-57页 |
·SiO_2隔离层研究 | 第57页 |
·多层复合薄膜的性能及结构研究 | 第57-67页 |
·薄膜的疏水性研究 | 第57-59页 |
·膜厚及其电导率 | 第59-61页 |
·晶相结构 | 第61页 |
·光学性能 | 第61-62页 |
·光催化抑菌性能测试 | 第62-64页 |
·化学稳定性 | 第64-65页 |
·电学性能 | 第65-66页 |
·复合多层镀膜玻璃的Low-E性能 | 第66-67页 |
·玻璃环保型概念房制作与评价 | 第67-68页 |
·小结 | 第68-70页 |
5 玻璃表面超疏水性薄膜制备 | 第70-79页 |
·前言 | 第70页 |
·疏水薄膜简介 | 第70-73页 |
·疏水薄膜的制备 | 第73页 |
·薄膜化学成分 | 第73-74页 |
·热处理温度与疏水特性 | 第74-75页 |
·薄膜的红外特性分析 | 第75-77页 |
·表面结构 | 第77-78页 |
·表面粗糙度 | 第77-78页 |
·表面形貌 | 第78页 |
·小结 | 第78-79页 |
6 低辐射玻璃的产品特性 | 第79-95页 |
·前言 | 第79页 |
·模拟在线低辐射镀膜生产 | 第79-83页 |
·模拟在线低辐射镀膜生产线的结构 | 第79-80页 |
·喷雾模块设计 | 第80-81页 |
·喷雾模块的制造 | 第81-82页 |
·喷雾模块的安装调试及设备改造 | 第82-83页 |
·浮法在线低辐射镀膜中试工艺流程 | 第83-85页 |
·浮法玻璃工艺流程简述 | 第83-84页 |
·在线Low-E工艺流程 | 第84-85页 |
·低辐射玻璃的性能指标 | 第85-86页 |
·低辐射玻璃的光学、热工学测试及分析 | 第86-91页 |
·国标计算 | 第86-87页 |
·软件计算 | 第87-89页 |
·低辐射玻璃性能比较 | 第89-91页 |
·薄膜的耐酸碱性 | 第91-92页 |
·耐酸碱性与透过率的变化 | 第91-92页 |
·耐酸碱性与方阻的变化 | 第92页 |
·热稳定性 | 第92-93页 |
·薄膜与基板的结合强度 | 第93页 |
·颜色均匀性和耐磨性 | 第93-94页 |
·小结 | 第94-95页 |
7 ZnO:Al薄膜制备及光电性能研究 | 第95-100页 |
·前言 | 第95页 |
·实验方法 | 第95-96页 |
·实验结果与分析讨论 | 第96-99页 |
·薄膜晶体结构分析 | 第96页 |
·光学性能 | 第96-98页 |
·电学性能 | 第98-99页 |
·小结 | 第99-100页 |
8 结论 | 第100-101页 |
致谢 | 第101-102页 |
参考文献 | 第102-108页 |
作者在博士期间撰写和发表的论文 | 第108页 |