| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-29页 |
| 1.1 引言 | 第11-12页 |
| 1.2 光催化基本原理 | 第12-13页 |
| 1.3 半导体光催化材料 | 第13-14页 |
| 1.4 Bi_2WO_6光催化材料概述 | 第14-27页 |
| 1.4.1 Bi_2WO_6的结构 | 第14-15页 |
| 1.4.2 Bi_2WO_6的制备方法 | 第15-16页 |
| 1.4.3 Bi_2WO_6研究现状 | 第16-27页 |
| 1.4.3.1 离子掺杂 | 第16-19页 |
| 1.4.3.2 形貌调控 | 第19-24页 |
| 1.4.3.3 表面贵金属修饰 | 第24-26页 |
| 1.4.3.4 构筑异质结 | 第26-27页 |
| 1.5 立题依据 | 第27-29页 |
| 第二章 实验方案 | 第29-35页 |
| 2.1 实验原料及设备 | 第29-30页 |
| 2.1.1 实验原料 | 第29-30页 |
| 2.1.2 实验设备 | 第30页 |
| 2.2 实验设计 | 第30-31页 |
| 2.3 测试及表征方法 | 第31-35页 |
| 2.3.1 X射线衍射(XRD) | 第31页 |
| 2.3.2 傅里叶红外光谱测试(FT-IR) | 第31页 |
| 2.3.3 拉曼光谱测试(Raman) | 第31页 |
| 2.3.4 扫描电镜(SEM) | 第31-32页 |
| 2.3.5 透射电镜(TEM) | 第32页 |
| 2.3.6 紫外-可见漫反射谱(DRS) | 第32页 |
| 2.3.7 荧光光谱(PL) | 第32页 |
| 2.3.8 光电流和化学阻抗测试(Photocurrent and EIS) | 第32-33页 |
| 2.3.9 比表面积测试(BET) | 第33页 |
| 2.3.10 X射线光电子能谱测试(XPS) | 第33页 |
| 2.3.11 光催化性能测试 | 第33-35页 |
| 第三章 铌掺杂Bi_2WO_6纳米片的制备与表征 | 第35-49页 |
| 3.1 引言 | 第35页 |
| 3.2 制备方法 | 第35-36页 |
| 3.2.2 Bi_2WO_6晶体中掺杂Nb的制备方法 | 第35-36页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第36-47页 |
| 3.3.1 结构分析 | 第36-42页 |
| 3.3.3 光学性质分析 | 第42-43页 |
| 3.3.4 光电性能分析 | 第43-45页 |
| 3.3.5 光催化性能分析 | 第45-47页 |
| 3.4 本章小结 | 第47-49页 |
| 第四章 Bi_2WO_6纳米片微管的制备与表征 | 第49-59页 |
| 4.1 引言 | 第49页 |
| 4.2 制备方法 | 第49-50页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第50-58页 |
| 4.3.1 结构分析 | 第50-55页 |
| 4.3.2 光学性质分析 | 第55-57页 |
| 4.3.3 光催化性能分析 | 第57-58页 |
| 4.4 本章小结 | 第58-59页 |
| 第五章 Ag纳米颗粒修饰Bi_2WO_6纳米微管的制备与表征 | 第59-69页 |
| 5.1 引言 | 第59页 |
| 5.2 制备方法 | 第59-60页 |
| 5.3 结果与讨论 | 第60-68页 |
| 5.3.1 结构分析 | 第60-64页 |
| 5.3.2 光学性质分析 | 第64-66页 |
| 5.3.3 光催化性能分析 | 第66-68页 |
| 5.4 本章小结 | 第68-69页 |
| 第六章 全文总结 | 第69-71页 |
| 6.1 全文总结 | 第69-71页 |
| 参考文献 | 第71-79页 |
| 致谢 | 第79-81页 |
| 简历 | 第81-83页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文与取得的其他研究成果 | 第83页 |
