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基于0.54μm CMOS工艺的ESD防护研究

摘要第5-6页
ABSTRACT第6页
第一章 绪论第9-13页
    1.1 ESD的背景和研究意义第9-10页
    1.2 国内外研究现状第10-11页
    1.3 本文的主要工作内容第11-12页
    1.4 本论文的结构安排第12-13页
第二章 ESD保护原理和测试模型第13-26页
    2.1 ESD保护的基本原理第13页
    2.2 ESD测试模型第13-21页
        2.2.1 人体模型第14-16页
        2.2.2 机器模型第16-17页
        2.2.3 器件充电模型第17-19页
        2.2.4 传输线脉冲模型第19-21页
    2.3 测试方法和失效判定方式第21-22页
    2.4 常见失效类型第22-25页
    2.5 本章小结第25-26页
第三章 ESD设计窗.和常用的ESD保护器件第26-37页
    3.1 ESD设计窗第26-27页
    3.2 二极管第27-28页
    3.3 电阻第28-29页
    3.4 BJT第29-31页
    3.5 MOS第31-34页
    3.6 SCR第34-36页
    3.7 本章小结第36-37页
第四章 CMOS工艺下SCR器件特性研究第37-59页
    4.1 项目和工艺简要介绍第37-38页
        4.1.1 研究目标第37页
        4.1.2 研究内容第37-38页
        4.1.3 功能技术指标第38页
        4.1.4 0.54μm CMOS工艺介绍第38页
    4.2 SCR器件的触发电压研究第38-46页
        4.2.1 SCR器件触发的基本原理第39页
        4.2.2 改善SCR器件触发电压的方法第39-44页
            4.2.2.1 改变雪崩击穿点的SCR器件第40-41页
            4.2.2.2 经过辅助触发的SCR器件第41-44页
        4.2.3 实验结果及分析第44-46页
    4.3 SCR器件的维持电压研究第46-52页
        4.3.1 提高SCR器件维持电压的方法第47-50页
            4.3.1.1 降低寄生管的放大系数第47页
            4.3.1.2 降低寄生管的发射区注入效率第47-48页
            4.3.1.3 削弱寄生管之间的正反馈第48-49页
            4.3.1.4 利用堆叠SCR结构第49-50页
        4.3.2 实验结果及分析第50-52页
    4.4 SCR器件的开启时间研究第52-57页
        4.4.1 DTSCR开启过程的理论分析及公式推导第53-56页
            4.4.1.1 延迟时间td第53-55页
            4.4.1.2 上升时间tr第55-56页
        4.4.2 优化版图结构第56-57页
    4.5 本章小结第57-59页
第五章 双向结构和全芯片保护电路设计第59-70页
    5.1 双向结构研究第59-66页
        5.1.1 典型双向结构原理分析第59-60页
        5.1.2 实验结果及分析第60-66页
    5.2 全芯片保护方案设计第66-69页
        5.2.1 常用的全芯片保护方案第66-68页
        5.2.2 全芯片保护选择第68-69页
    5.3 本章小结第69-70页
第六章 总结与展望第70-72页
    6.1 总结第70-71页
    6.2 展望第71-72页
致谢第72-73页
参考文献第73-77页
攻读硕士期间取得的成果第77-78页

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