| 摘要 | 第5-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-18页 |
| 1.1 太赫兹波概述 | 第10-11页 |
| 1.2 太赫兹波特性和应用 | 第11-12页 |
| 1.3 太赫兹器件研究现状 | 第12-14页 |
| 1.4 柔性器件的研究现状及在太赫兹领域中的应用 | 第14-17页 |
| 1.5 论文的主要内容 | 第17-18页 |
| 第二章 小尺寸硅对太赫兹波脉冲透射率的研究 | 第18-39页 |
| 2.1 硅材料的基本特性及在太赫兹调制领域的应用 | 第18-19页 |
| 2.2 太赫兹时域光谱分析(THz-TDS)测试系统工作原理与操作 | 第19-23页 |
| 2.2.1 透射式THz-TDS的测试理论 | 第20-21页 |
| 2.2.2 反射式THz-TDS的测试理论 | 第21-22页 |
| 2.2.3 THz-TDSFiCO系统操作步骤 | 第22-23页 |
| 2.3 太赫兹波与小尺寸硅和大尺寸硅的相互作用 | 第23-29页 |
| 2.3.1 小尺寸硅的制作 | 第25页 |
| 2.3.2 不同厚度的小尺寸硅片与太赫兹波的相互作用 | 第25-27页 |
| 2.3.3 相同厚度不同大小的硅片与太赫兹波相互作用 | 第27-29页 |
| 2.4 激光照射对硅片和小尺寸硅的影响 | 第29-32页 |
| 2.5 金纳米颗粒单层膜对小尺寸硅激光调制的影响 | 第32-37页 |
| 2.5.1 金纳米颗粒的制备 | 第34-36页 |
| 2.5.2 金纳米颗粒单层膜的制作 | 第36-37页 |
| 2.6 本章小结 | 第37-39页 |
| 第三章 小尺寸硅与太赫兹波相互作用的Matlab仿真 | 第39-49页 |
| 3.1 相同尺寸不同厚度的小尺寸硅与太赫波脉冲相互作用的仿真 | 第40-45页 |
| 3.2 相同厚度不同大小的小尺寸硅片与太赫兹波相互作用的仿真 | 第45-46页 |
| 3.3 小尺寸硅对太赫兹波光调制的仿真 | 第46-48页 |
| 3.4 本章小结 | 第48-49页 |
| 第四章 柔性硅阵列调制器的制作与太赫兹空间调制 | 第49-61页 |
| 4.1 柔性衬底的选择与制作 | 第49-51页 |
| 4.1.1 PDMS衬底的制作 | 第49-51页 |
| 4.2 柔性半导体太赫兹调制器的制作 | 第51-52页 |
| 4.3 柔性硅阵列与太赫兹波的相互作用 | 第52-56页 |
| 4.3.1 激光照射对小尺寸硅阵列的影响 | 第54-56页 |
| 4.4 柔性半导体太赫兹调制器成像对太赫兹波的空间调制 | 第56-59页 |
| 4.4.1 太赫兹波透过不同厚度的小尺寸硅片的强度分布 | 第57-58页 |
| 4.4.2 柔性可伸展半导体太赫兹调制器成像 | 第58-59页 |
| 4.5 本章小结 | 第59-61页 |
| 第五章 微米级小尺寸硅阵列的研究 | 第61-67页 |
| 5.1 微米级小尺寸硅的制作 | 第61-64页 |
| 5.1.1 基片清洗 | 第61页 |
| 5.1.2 光刻工艺 | 第61-62页 |
| 5.1.3 刻蚀工艺与微米级硅阵列的样品制作 | 第62-64页 |
| 5.2 微米级小尺寸硅阵列的测试 | 第64-66页 |
| 5.2.1 微米级硅阵列对太赫兹波的光调制 | 第65-66页 |
| 5.3 本章总结 | 第66-67页 |
| 第六章 结论与展望 | 第67-69页 |
| 6.1 结论 | 第67-68页 |
| 6.2 展望 | 第68-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-73页 |
| 攻读硕士学位期间取得的成果 | 第73页 |
