| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-15页 |
| 1.1 激光器的发展史 | 第9-11页 |
| 1.1.1 可饱和吸收体及被动调Q固体激光器的发展 | 第9-11页 |
| 1.2 调Q激光器 | 第11-13页 |
| 1.2.1 品质因数Q | 第11页 |
| 1.2.2 调Q的基本原理 | 第11-12页 |
| 1.2.3 被动调Q | 第12-13页 |
| 1.3 本论文研究的目的与意义 | 第13-15页 |
| 第二章 宽带可饱和吸收体的简介与制备 | 第15-33页 |
| 2.1 新型宽带可饱和吸收体 | 第15-19页 |
| 2.1.1 碳纳米管 | 第15-17页 |
| 2.1.2 四氧化三铁 | 第17-19页 |
| 2.2 宽带可饱和吸收体的制备方法 | 第19-20页 |
| 2.2.1 旋转涂覆法 | 第19页 |
| 2.2.2 聚合物复合法 | 第19页 |
| 2.2.3 垂直生长法 | 第19-20页 |
| 2.2.4 溅射法 | 第20页 |
| 2.2.5 LB拉膜法 | 第20页 |
| 2.3 溶胶-凝胶法制备可饱和吸收体 | 第20-25页 |
| 2.3.1 SiO_2凝胶的实验原理 | 第20-21页 |
| 2.3.2 溶胶制备原料及实验设备 | 第21-22页 |
| 2.3.3 实验步骤 | 第22-23页 |
| 2.3.4 工艺流程及实验操作流程 | 第23-25页 |
| 2.4 反应物的配比对SiO_2薄膜的影响 | 第25-26页 |
| 2.5 原料配比不同对SiO_2薄膜制品的影响 | 第26-32页 |
| 2.5.1 水含量对成膜影响 | 第26-27页 |
| 2.5.2 乙醇含量对成膜影响 | 第27-28页 |
| 2.5.3 催化剂含量对成膜影响 | 第28-30页 |
| 2.5.4 陈化时间与温度对成膜性能影响 | 第30-32页 |
| 2.5.5 热处理温度对成膜性能影响 | 第32页 |
| 2.6 本章小结 | 第32-33页 |
| 第三章 单壁碳纳米管可饱和吸收体被动调Q激光特性 | 第33-37页 |
| 3.1 单壁碳纳米管被动调Q实验 | 第33-34页 |
| 3.1.1 单壁碳纳米管的形貌特征 | 第33页 |
| 3.1.2 溶胶-凝胶制备透射式单壁碳纳米管可饱和吸收器件 | 第33-34页 |
| 3.2 实验装置 | 第34页 |
| 3.3 实验结果及分析 | 第34-36页 |
| 3.4 本章小结 | 第36-37页 |
| 第四章 四氧化三铁被动调Q实验 | 第37-43页 |
| 4.1 四氧化三铁吸收体的制备 | 第37页 |
| 4.2 四氧化三铁溶液的表征 | 第37-39页 |
| 4.3 实验装置 | 第39-40页 |
| 4.4 被动调Q实验研究 | 第40-41页 |
| 4.5 结论 | 第41-43页 |
| 第五章 总结与展望 | 第43-45页 |
| 参考文献 | 第45-49页 |
| 致谢 | 第49-51页 |
| 攻读学位期间科研成果 | 第51页 |