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YG10X硬质合金上磁控溅射沉积W-N硬质膜及其性能研究

摘要第5-7页
ABSTRACT第7-8页
第一章 绪论第12-22页
    1.1 引言第12页
    1.2 刀具材料的演变与革新第12-15页
        1.2.1 刀具材料的消耗情况第13页
        1.2.2 硬质合金刀具材料第13-15页
    1.3 刀具涂层材料的发展第15-16页
    1.4 硬质涂层制备技术的发展第16-19页
        1.4.1 真空蒸镀第17页
        1.4.2 多弧离子镀第17-18页
        1.4.3 溅射镀膜第18-19页
    1.5 W-N硬质膜的研究现状第19-21页
    1.6 本论文的主要研究内容及意义第21-22页
第二章 实验内容与方法第22-28页
    2.1 技术路线第22-23页
    2.2 基体材料的选择与前处理第23-24页
    2.3 薄膜的沉积过程第24-25页
    2.4 薄膜成分、结构和性能的表征第25-28页
        2.4.1 表面接触角和粗糙度第25页
        2.4.2 形貌分析第25-26页
        2.4.3 成分分析第26页
        2.4.4 物相结构分析第26页
        2.4.5 硬度测试第26-27页
        2.4.6 薄膜附着性能分析第27页
        2.4.7 薄膜的摩擦磨损性能分析第27页
        2.4.8 薄膜的耐蚀性能分析第27-28页
第三章 靶功率对DCMS沉积W-N硬质膜的影响第28-44页
    3.1 前言第28页
    3.2 试样制备第28-29页
    3.3 薄膜成分、结构和性能的表征分析第29-43页
        3.3.1 接触角与表面粗糙度第29-31页
        3.3.2 薄膜的形貌分析第31页
        3.3.3 薄膜成分分析第31-32页
        3.3.4 薄膜的相结构第32-34页
        3.3.5 薄膜的断面分析第34-35页
        3.3.6 薄膜硬度与弹性模量第35-36页
        3.3.7 薄膜的附着性能第36-38页
        3.3.8 薄膜的耐磨性能第38-41页
        3.3.9 薄膜的耐蚀性能第41-43页
    3.4 本章小结第43-44页
第四章 N_2/Ar对DCMS沉积W-N硬质膜的影响第44-59页
    4.1 前言第44页
    4.2 试样制备第44-45页
    4.3 薄膜成分、结构和性能的表征分析第45-57页
        4.3.1 表面粗糙度与接触角第45-46页
        4.3.2 薄膜的形貌分析第46-47页
        4.3.3 薄膜成分分析第47-48页
        4.3.4 薄膜的相结构第48-49页
        4.3.5 薄膜的断面分析第49-51页
        4.3.6 薄膜硬度与弹性模量第51页
        4.3.7 薄膜的附着性能第51-53页
        4.3.8 薄膜的耐磨性能第53-55页
        4.3.9 薄膜的耐蚀性能第55-57页
    4.4 本章小结第57-59页
第五章 HIPAC技术沉积W-N硬质膜及其性能研究第59-69页
    5.1 前言第59页
    5.2 试样制备第59-60页
    5.3 薄膜成分、结构和性能的表征分析第60-68页
        5.3.1 表面接触角与形貌分析第60-62页
        5.3.2 薄膜成分和相结构分析第62页
        5.3.3 薄膜的断面分析与力学性能第62-64页
        5.3.4 薄膜的附着性能第64-65页
        5.3.5 薄膜的耐磨性能第65-66页
        5.3.6 薄膜的耐蚀性能第66-68页
    5.4 本章小结第68-69页
结论与展望第69-71页
参考文献第71-76页
攻读硕士学位期间取得的研究成果第76-77页
致谢第77-78页
附件第78页

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