电子束选区熔化偏转扫描系统研究
摘要 | 第5-6页 |
Abstract | 第6页 |
1 绪论 | 第9-19页 |
1.1 快速成型技术概述 | 第9-14页 |
1.1.1 快速成型技术原理与特点 | 第9-10页 |
1.1.2 高能束流快速成型技术 | 第10-12页 |
1.1.3 快速成型技术中的数据处理 | 第12-14页 |
1.2 电子束选区熔化技术研究现状 | 第14-18页 |
1.2.1 国内外研究现状 | 第14-16页 |
1.2.2 电子束偏转扫描系统研究现状 | 第16-18页 |
1.3 论文主要研究内容 | 第18-19页 |
2 电子束选区熔化偏转扫描系统总体设计 | 第19-24页 |
2.1 设备基础 | 第19-21页 |
2.1.1 真空电子束焊机简介 | 第19-20页 |
2.1.2 自动铺粉系统简介 | 第20-21页 |
2.2 偏转扫描系统设计要求与实现方案 | 第21-23页 |
2.2.1 偏转线圈设计要求 | 第21页 |
2.2.2 控制系统设计要求 | 第21-22页 |
2.2.3 偏转扫描系统实现方案 | 第22-23页 |
2.3 本章小结 | 第23-24页 |
3 高精度偏转线圈的研制 | 第24-43页 |
3.1 偏转线圈总体设计 | 第24-27页 |
3.1.1 电子束磁偏转原理 | 第24-26页 |
3.1.2 线圈结构设计 | 第26-27页 |
3.2 偏转线圈数值模拟 | 第27-35页 |
3.2.1 电子束偏转扫描过程模拟仿真 | 第27-31页 |
3.2.2 偏转线圈内部磁场分析 | 第31-35页 |
3.3 偏转线圈研制 | 第35-42页 |
3.3.1 磁芯设计 | 第35-38页 |
3.3.2 线圈制作 | 第38-40页 |
3.3.3 线圈偏转角测试 | 第40-42页 |
3.4 本章小结 | 第42-43页 |
4 电子束选区熔化偏转扫描控制系统的开发 | 第43-68页 |
4.1 控制系统的硬件设计 | 第43-46页 |
4.1.1 扫描信号发生模块 | 第43-44页 |
4.1.2 数模转换电路 | 第44-45页 |
4.1.3 功率放大器 | 第45-46页 |
4.2 三维模型分层切片 | 第46-54页 |
4.2.1 STL文件格式 | 第46-47页 |
4.2.2 基于STL的分层切片算法分析 | 第47-48页 |
4.2.3 分层算法的实现 | 第48-51页 |
4.2.4 分层切片程序开发 | 第51-54页 |
4.3 扫描路径规划及层片信息处理 | 第54-61页 |
4.3.1 现有的扫描填充方式分析 | 第54-57页 |
4.3.2 扫描填充算法的实现 | 第57-59页 |
4.3.3 层片信息处理生成扫描信号 | 第59-61页 |
4.4 偏转扫描控制系统测试 | 第61-67页 |
4.4.1 算例测试 | 第61-66页 |
4.4.2 调节性能测试 | 第66-67页 |
4.5 本章小结 | 第67-68页 |
5 电子束选区熔化偏转扫描系统测试 | 第68-75页 |
5.1 扫描算例测试 | 第68-71页 |
5.1.1 测试方案 | 第68-70页 |
5.1.2 测试结果及分析 | 第70-71页 |
5.2 金属粉末电子束选区熔化测试 | 第71-74页 |
5.2.1 测试方案 | 第71-72页 |
5.2.2 测试结果及分析 | 第72-74页 |
5.3 本章小结 | 第74-75页 |
6 结论与展望 | 第75-77页 |
致谢 | 第77-78页 |
参考文献 | 第78-82页 |
附录 | 第82页 |