薄膜辐射热流传感器的研制
| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 主要符号表 | 第13-15页 |
| 1 绪论 | 第15-23页 |
| 1.1 课题的背景与研究意义 | 第15-18页 |
| 1.1.1 热流传感器的起源与发展 | 第15-17页 |
| 1.1.2 热流传感器的分类 | 第17-18页 |
| 1.1.3 热流传感器的应用及意义 | 第18页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第18-22页 |
| 1.2.1 热流传感器的研制 | 第18-21页 |
| 1.2.2 标定系统的开发 | 第21-22页 |
| 1.3 本文研究内容 | 第22-23页 |
| 2 热流传感器测量原理 | 第23-32页 |
| 2.1 辐射热流传感器概述 | 第23页 |
| 2.2 圆箔式热流传感器 | 第23-27页 |
| 2.2.1 热电偶测温原理 | 第23-24页 |
| 2.2.2 圆箔式热流传感器测量原理 | 第24-27页 |
| 2.3 热电堆式热流传感器 | 第27-29页 |
| 2.3.1 热阻式热流传感器概述 | 第27-28页 |
| 2.3.2 热电堆式热流传感器测量原理 | 第28-29页 |
| 2.4 主要性能指标 | 第29-31页 |
| 2.4.1 测头系数 | 第29-30页 |
| 2.4.2 响应时间 | 第30-31页 |
| 2.5 本章小结 | 第31-32页 |
| 3 热流传感器的设计方案 | 第32-41页 |
| 3.1 热电堆的设计方案 | 第32-34页 |
| 3.2 热阻层的结构设计 | 第34-35页 |
| 3.3 材料的选择 | 第35-38页 |
| 3.3.1 热电堆材料的选择 | 第35-36页 |
| 3.3.2 热阻层材料的选择 | 第36-37页 |
| 3.3.3 基底材料的选择 | 第37-38页 |
| 3.4 理论计算 | 第38-40页 |
| 3.5 本章小结 | 第40-41页 |
| 4 热流传感器的制作 | 第41-55页 |
| 4.1 确定制作方案 | 第41-42页 |
| 4.2 磁控溅射金属膜 | 第42-47页 |
| 4.2.1 镀膜过程 | 第44-45页 |
| 4.2.2 溅射功率的确定 | 第45-47页 |
| 4.3 光刻工艺 | 第47-54页 |
| 4.3.1 实验设备介绍 | 第48-50页 |
| 4.3.2 光刻过程 | 第50-54页 |
| 4.4 本章小结 | 第54-55页 |
| 5 热流传感器的标定 | 第55-73页 |
| 5.1 标定系统的研制 | 第55-59页 |
| 5.1.1 标定方法介绍 | 第55页 |
| 5.1.2 标定系统的搭建 | 第55-57页 |
| 5.1.3 标定过程 | 第57-59页 |
| 5.2 标定结果和分析 | 第59-66页 |
| 5.2.1 标定结果 | 第59-61页 |
| 5.2.2 标定结果分析 | 第61-62页 |
| 5.2.3 输出信号波动分析 | 第62-65页 |
| 5.2.4 误差分析 | 第65-66页 |
| 5.3 响应测试 | 第66-69页 |
| 5.3.1 方案的选择及测试结果 | 第66-69页 |
| 5.3.2 误差分析 | 第69页 |
| 5.4 测头一致性测试 | 第69-71页 |
| 5.5 本章小结 | 第71-73页 |
| 6 本文主要工作总结 | 第73-75页 |
| 6.1 本文主要工作总结 | 第73-74页 |
| 6.2 工作展望 | 第74-75页 |
| 致谢 | 第75-76页 |
| 参考文献 | 第76-79页 |
