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高能效4H-SiC MESFET设计与仿真

摘要第5-7页
ABSTRACT第7-8页
符号对照表第12-13页
缩略语对照表第13-17页
第一章 绪论第17-27页
    1.1 SiC MESFET的优势第17-19页
    1.2 SiC MESFET的研究现状第19-24页
    1.3 本文主要研究内容第24-27页
第二章 4H-SiC MESFET器件物理特性研究分析第27-37页
    2.1 ADS仿真工具第27页
    2.2 ISE-TCAD工具第27-28页
    2.3 4H-SiC MESFET物理特性的分析比较第28-35页
        2.3.1 不同栅结构的 4H-SiC MESFET的物理特性分析第29-32页
        2.3.2 不同沟道层和缓冲层的 4H-SiC MESFET的物理特性分析第32-35页
    2.4 本章小结第35-37页
第三章 双高栅和凹陷缓冲层 4H-SiC MESFET设计第37-59页
    3.1 器件结构第37-39页
    3.2 DR MESFET、DU MESFET、DURP MESFET的直流特性对比分析第39-43页
        3.2.1 漏电流输出性能分析第39-41页
        3.2.2 击穿分析第41-43页
    3.3 DR MESFET、DU MESFET、DURP MESFET的射频特性对比分析第43-46页
        3.3.1 栅源电容性能分析第43-44页
        3.3.2 跨导性能分析第44-46页
    3.4 DURP MESFET结构参数的优化第46-53页
        3.4.1 栅高对器件特性参数的影响第46-49页
        3.4.2 凹陷缓冲层深度及长度对SiC MESFET特性参数的影响第49-52页
        3.4.3 凹陷缓冲层的位置对SiC MESFET特性参数的影响第52-53页
    3.5 射频功放效率与 4H-SiC MESFET器件性能参数的依赖关系第53-55页
    3.6 本章小结第55-59页
第四章 具有凹陷漏漂移区和缓冲层的坡形栅 4H-SiC MESFET第59-65页
    4.1 RDRP-CG MESFET和CG MESFET结构第59-60页
    4.2 直流特性第60-63页
    4.3 射频特性第63-64页
    4.4 本章小结第64-65页
第五章 总结与展望第65-67页
    5.1 论文总结第65-66页
    5.2 研究展望第66-67页
参考文献第67-71页
致谢第71-73页
作者简介第73-75页

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