摘要 | 第1-7页 |
Abstract | 第7-9页 |
目录 | 第9-12页 |
第一章 前言 | 第12-14页 |
第二章 文献综述 | 第14-40页 |
·ZnO的基本性质 | 第14-18页 |
·ZnO的晶体结构 | 第14-15页 |
·ZnO的物理化学性质 | 第15-17页 |
·ZnO能带结构 | 第17-18页 |
·ZnO缺陷工程 | 第18-20页 |
·ZnO的本征缺陷 | 第18-19页 |
·ZnO的非故意掺杂 | 第19-20页 |
·ZnO杂质工程 | 第20-31页 |
·n型掺杂 | 第20-23页 |
·p型掺杂 | 第23-31页 |
·ZnO基LED | 第31-36页 |
·异质结LED | 第31-32页 |
·同质结LED | 第32-36页 |
·本论文的选题依据和研究内容 | 第36-38页 |
·本章小结 | 第38-40页 |
第三章 实验原理、生长工艺及表征技术 | 第40-48页 |
·脉冲激光沉积技术 | 第40-43页 |
·脉冲激光沉积原理 | 第40-41页 |
·实验设备 | 第41-43页 |
·实验原料及生长工艺 | 第43-45页 |
·靶材制备 | 第43-44页 |
·薄膜制备 | 第44-45页 |
·衬底及其清洗 | 第45页 |
·性能表征技术 | 第45-46页 |
·本章小结 | 第46-48页 |
第四章 F掺杂ZnO透明导电薄膜的制备、性能及其在TFT中的应用 | 第48-70页 |
·氧偏压对F掺杂ZnO薄膜性能的影响 | 第48-62页 |
·F掺杂ZnO薄膜的结构 | 第49-52页 |
·F掺杂ZnO薄膜的表面形貌 | 第52-53页 |
·F掺杂ZnO薄膜的组分分布 | 第53-54页 |
·F掺杂ZnO薄膜的电学性能 | 第54-56页 |
·F掺杂ZnO薄膜的光学性能 | 第56-60页 |
·F掺杂ZnO薄膜的热稳定性 | 第60-62页 |
·F掺杂ZnO薄膜在薄膜晶体管中的应用 | 第62-69页 |
·ZnO沟道层 | 第63-64页 |
·Ta_2O_5栅绝缘层 | 第64-67页 |
·ZnO基薄膜晶体管 | 第67-69页 |
·本章小结 | 第69-70页 |
第五章 Li-F共掺杂p型ZnO薄膜的制备、性能及第一性原理研究 | 第70-88页 |
·衬底温度对Li-F共掺杂ZnO薄膜性能的影响 | 第70-78页 |
·Li-F共掺杂ZnO薄膜的结构 | 第71-72页 |
·Li-F共掺杂ZnO薄膜的表面形貌 | 第72页 |
·Li-F共掺杂ZnO薄膜的电学性能 | 第72-73页 |
·Li-F共掺杂ZnO薄膜的组分分布 | 第73-74页 |
·Li-F共掺杂ZnO薄膜的光学性能 | 第74-78页 |
·p-ZnO:(Li,F)/n-ZnO同质结的制备 | 第78页 |
·Li-F共掺杂ZnO的第一性原理计算 | 第78-86页 |
·计算方法与模型构建 | 第78-80页 |
·ZnO的能带结构与态密度 | 第80-81页 |
·Li-F共掺杂ZnO的能带结构与态密度 | 第81-86页 |
·本章小结 | 第86-88页 |
第六章 Mg合金化对p型Ag掺杂ZnMgO薄膜的影响 | 第88-108页 |
·衬底温度对Ag掺杂ZnMgO薄膜性能的影响 | 第89-100页 |
·Ag掺杂ZnMgO薄膜的结构 | 第89-90页 |
·Ag掺杂ZnMgO薄膜的表面形貌 | 第90-93页 |
·Ag掺杂ZnMgO薄膜的组分分布 | 第93页 |
·Ag掺杂ZnMgO薄膜的化学态 | 第93-96页 |
·Ag掺杂ZnMgO薄膜的电学性能 | 第96-98页 |
·Ag掺杂ZnMgO薄膜的光学性能 | 第98页 |
·p-ZnMgO:Ag/i-ZnO/n-ZnMgO:Al异质结的制备 | 第98-100页 |
·ZnO:Ag和ZnMgO:Ag薄膜的对比研究 | 第100-106页 |
·ZnO:Ag和ZnMgO:Ag薄膜的结构 | 第100-101页 |
·ZnO:Ag和ZnMgO:Ag薄膜的表面形貌 | 第101-102页 |
·ZnO:Ag和ZnMgO:Ag薄膜的电学性能 | 第102-103页 |
·ZnO:Ag和ZnMgO:Ag薄膜的光学性能 | 第103-105页 |
·ZnMgO:Ag薄膜p型电导增强:氧空位的影响 | 第105-106页 |
·本章小结 | 第106-108页 |
第七章 结论 | 第108-112页 |
参考文献 | 第112-134页 |
致谢 | 第134-136页 |
个人简历 | 第136-138页 |
攻读学位期间发表的学术论文与取得的其它研究成果 | 第138-139页 |