载能氢、氘离子在钨中的沉积行为及其辐照损伤研究
| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 研究背景 | 第10-13页 |
| 1.1 研究意义 | 第10页 |
| 1.2 国内外研究动态 | 第10-12页 |
| 1.3 本论文研究内容 | 第12-13页 |
| 第二章 理论基础 | 第13-22页 |
| 2.1 氢同位素在钨中的沉积过程 | 第13-15页 |
| 2.1.1 固体溶解 | 第13-14页 |
| 2.1.2 扩散与复合 | 第14-15页 |
| 2.2 辐照损伤 | 第15-18页 |
| 2.2.1 辐射增强扩散效应 | 第15-16页 |
| 2.2.2 辐照损伤 | 第16-18页 |
| 2.3 离子与物质相互作用 | 第18-20页 |
| 2.3.1 阻止本领 | 第18-19页 |
| 2.3.2 射程 | 第19-20页 |
| 2.4 D-D核反应截面与产额 | 第20-22页 |
| 第三章 实验设备与方法 | 第22-38页 |
| 3.1 样品准备 | 第22-23页 |
| 3.2 氘浓度分析方法 | 第23-26页 |
| 3.2.1 瞬发非共振反应方法 | 第23-24页 |
| 3.2.2 弹性反冲探测方法 | 第24-25页 |
| 3.2.3 卢瑟福背散射分析 | 第25-26页 |
| 3.2.4 二次离子质谱分析 | 第26页 |
| 3.3 氘离子注入及动态氘浓度分析实验 | 第26-29页 |
| 3.3.1 实验设备 | 第26-27页 |
| 3.3.2 实验方法 | 第27-29页 |
| 3.4 静态氘浓度分析实验 | 第29-31页 |
| 3.5 质子注入实验 | 第31-33页 |
| 3.5.1 多功能实验装置 | 第31-32页 |
| 3.5.2 实验方法 | 第32-33页 |
| 3.6 样品表征方法及设备 | 第33-38页 |
| 3.6.1 原子力显微镜分析测试 | 第33-35页 |
| 3.6.2 扫描电子显微镜分析测试 | 第35-36页 |
| 3.6.3 透射电子显微镜分析测试 | 第36-38页 |
| 第四章 结果分析与讨论 | 第38-54页 |
| 4.1 氘注入钨中的实验结果与分析 | 第38-47页 |
| 4.1.1 饱和动态氘浓度与注量的关系 | 第38-41页 |
| 4.1.2 辐照损伤 | 第41-44页 |
| 4.1.3 静态氘浓度随时间变化关系 | 第44-47页 |
| 4.2 质子注入钨中的实验结果与分析 | 第47-51页 |
| 4.2.1 AFM测试结果 | 第47-48页 |
| 4.2.2 SEM测试结果 | 第48-49页 |
| 4.2.3 TEM测试结果 | 第49-51页 |
| 4.2.4 表面形貌分析与讨论 | 第51页 |
| 4.3 氢离子辐照损伤及沉积行为分析 | 第51-54页 |
| 4.3.1 动静态氘浓度差异分析 | 第51-52页 |
| 4.3.2 氢沉积与辐照损伤关系 | 第52-54页 |
| 第五章 总结与展望 | 第54-56页 |
| 5.1 实验总结 | 第54页 |
| 5.2 工作展望 | 第54-56页 |
| 参考文献 | 第56-59页 |
| 在学期间研究成果 | 第59-60页 |
| 致谢 | 第60页 |
