基于nTHGEM热中子探测器的实验研究
| 中文摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4页 |
| 第一章 引言 | 第8-11页 |
| 第二章 中子的产生与探测 | 第11-22页 |
| 2.1 中子源的发展与应用 | 第11-17页 |
| 2.1.1 放射性核素中子源 | 第11-14页 |
| 2.1.2 裂变反应堆中子源 | 第14-15页 |
| 2.1.3 加速器中子源 | 第15页 |
| 2.1.4 中国散裂中子源 | 第15-17页 |
| 2.2 中子探测技术 | 第17-18页 |
| 2.2.1 ~3He气体短缺 | 第18页 |
| 2.2.2 替代~3He中子探测器 | 第18页 |
| 2.3 涂硼GEM中子探测器研究现状 | 第18-21页 |
| 2.4 本章小结 | 第21-22页 |
| 第三章 基于nTHGEM的涂硼中子探测器 | 第22-36页 |
| 3.1 中子探测专用nTHGEM膜 | 第22-23页 |
| 3.2 探测器的结构与原理 | 第23-25页 |
| 3.3 硼中子转化层的模拟研究 | 第25-27页 |
| 3.3.1 蒙特卡洛模拟介绍 | 第25-26页 |
| 3.3.2 中子转换层模拟 | 第26-27页 |
| 3.4 信号读出板的设计与优化 | 第27-30页 |
| 3.4.1 信号读出板整体设计 | 第27-29页 |
| 3.4.2 材料选择优化 | 第29-30页 |
| 3.5 高压电源的小型化设计 | 第30-34页 |
| 3.5.1 高压模块介绍 | 第30-31页 |
| 3.5.2 高压电源设计 | 第31-34页 |
| 3.6 本章小结 | 第34-36页 |
| 第四章 nTHGEM的性能研究 | 第36-50页 |
| 4.1 X光机测试 | 第36-44页 |
| 4.1.1 测试平台 | 第36-38页 |
| 4.1.2 电子学刻度与增益计算 | 第38-41页 |
| 4.1.3 实验测试结果 | 第41-44页 |
| 4.1.4 实验小结 | 第44页 |
| 4.2 ~(252)Cf中子源测试 | 第44-49页 |
| 4.2.1 ~(252)Cf中子源介绍 | 第44-45页 |
| 4.2.2 涂硼GEM中子探测器介绍 | 第45-47页 |
| 4.2.3 实验测试结果 | 第47-49页 |
| 4.2.4 实验小结 | 第49页 |
| 4.3 本章小结 | 第49-50页 |
| 第五章 中国工程物理研究院反应堆束流实验 | 第50-57页 |
| 5.1 反应堆中子实验装置介绍 | 第50-52页 |
| 5.1.1 飞行时间极化中子反射谱仪实验束站 | 第50-51页 |
| 5.1.2 涂硼GEM二维位置灵敏中子束流监测器 | 第51-52页 |
| 5.2 冷热中子TOF能谱实验 | 第52-55页 |
| 5.2.1 热中子计数率坪曲线 | 第52页 |
| 5.2.2 热中子狭缝成像 | 第52-53页 |
| 5.2.3 热中子飞行时间测量 | 第53页 |
| 5.2.4 冷中子狭缝成像 | 第53-54页 |
| 5.2.5 冷中子飞行时间测量 | 第54页 |
| 5.2.6 冷、热中子波长分布对比 | 第54-55页 |
| 5.2.7 探测效率修正 | 第55页 |
| 5.3 探测器老化试验 | 第55-56页 |
| 5.4 本章小结 | 第56-57页 |
| 第六章 GEM探测器的密闭化研究 | 第57-69页 |
| 6.1 密闭式探测器研究意义 | 第57页 |
| 6.2 探测器密闭腔体设计 | 第57-62页 |
| 6.2.1 探测器腔体设计 | 第58页 |
| 6.2.2 密封圈选择 | 第58-60页 |
| 6.2.3 探测器腔体表面处理 | 第60-62页 |
| 6.2.4 探测器腔体整体性能 | 第62页 |
| 6.3 探测器内部元件选择 | 第62-64页 |
| 6.3.1 元件材料选择 | 第62-63页 |
| 6.3.2 材料烘烤处理 | 第63-64页 |
| 6.4 探测器密封性能测试 | 第64-66页 |
| 6.4.1 探测器充气平台 | 第64-65页 |
| 6.4.2 探测器泄露率测试 | 第65-66页 |
| 6.5 探测器宇宙射线测试 | 第66-68页 |
| 6.5.1 实验环境 | 第66-67页 |
| 6.5.2 读出电子学系统 | 第67页 |
| 6.5.3 初步测试结果 | 第67-68页 |
| 6.6 本章小结 | 第68-69页 |
| 第七章 总结与展望 | 第69-71页 |
| 参考文献 | 第71-74页 |
| 发表文章情况 | 第74-75页 |
| 致谢 | 第75页 |
