| 摘要 | 第6-8页 |
| ABSTRACT | 第8-10页 |
| 第一章 绪论 | 第17-36页 |
| 1.1 引言 | 第17页 |
| 1.2 电沉积技术简介 | 第17-18页 |
| 1.3 电沉积制备耐蚀镀层 | 第18-23页 |
| 1.3.1 Zn及Zn合金耐蚀镀层 | 第18-19页 |
| 1.3.2 Cu及Cu合金耐蚀镀层 | 第19-20页 |
| 1.3.3 Cr及Cr合金耐蚀镀层 | 第20页 |
| 1.3.4 Ni及Ni基合金耐蚀镀层 | 第20-21页 |
| 1.3.5 新型纳米/非晶结构耐蚀镀层 | 第21-22页 |
| 1.3.6 超疏水性耐蚀镀层 | 第22-23页 |
| 1.4 Ni基Mo合金研究进展 | 第23-26页 |
| 1.4.1 二元Ni-Mo合金镀层研究进展 | 第23-24页 |
| 1.4.2 三元Ni-Mo-Me合金镀层研究进展 | 第24-26页 |
| 1.5 纳米复合镀层研究进展 | 第26-31页 |
| 1.5.1 纳米Al_2O_3复合镀层的研究 | 第27-28页 |
| 1.5.2 纳米SiO_2复合镀层研究 | 第28-30页 |
| 1.5.3 石墨烯复合镀层的研究 | 第30-31页 |
| 1.6 金属表面钝化研究 | 第31-34页 |
| 1.6.1 金属的钝化 | 第31页 |
| 1.6.2 金属钝化膜研究进展 | 第31-32页 |
| 1.6.3 钝化膜性质的研究进展 | 第32-33页 |
| 1.6.4 Ni基金属钝化研究进展 | 第33-34页 |
| 1.7 本文的选题意义和研究内容 | 第34-36页 |
| 第二章 实验方法与设备 | 第36-45页 |
| 2.1 实验试剂与仪器 | 第36-38页 |
| 2.1.1 实验试剂 | 第36-37页 |
| 2.1.2 实验设备和仪器 | 第37-38页 |
| 2.2 合金镀层的制备 | 第38-42页 |
| 2.2.1 基体镀前预处理 | 第38页 |
| 2.2.2 镀液成分与工艺条件 | 第38-40页 |
| 2.2.3 镀液配制 | 第40-41页 |
| 2.2.4 电沉积过程 | 第41页 |
| 2.2.5 镀件后处理 | 第41-42页 |
| 2.3 镀层表征及其性能分析测试方法 | 第42-45页 |
| 2.3.1 镀层外观检查 | 第42页 |
| 2.3.2 显微形貌观察分析 | 第42页 |
| 2.3.3 组织结构测试 | 第42-43页 |
| 2.3.4 表面粗糙度测试 | 第43页 |
| 2.3.5 表面硬度测试 | 第43页 |
| 2.3.6 镀层腐蚀电化学测试 | 第43-45页 |
| 第三章 电沉积工艺对Ni-Mo二元合金镀层的成分及性能的影响 | 第45-81页 |
| 3.1 引言 | 第45页 |
| 3.2 镀液成分对Ni-Mo合金镀层性能的影响 | 第45-54页 |
| 3.2.1 镀液成分对镀层成分的影响 | 第45-46页 |
| 3.2.2 镀液成分对镀层组织结构的影响 | 第46-47页 |
| 3.2.3 镀层形貌分析 | 第47-48页 |
| 3.2.4 镀层粗糙度分析 | 第48-50页 |
| 3.2.5 镀层硬度分析 | 第50-51页 |
| 3.2.6 镀层耐蚀性能的影响 | 第51-54页 |
| 3.3 镀液pH值对Ni-Mo合金镀层性能的影响 | 第54-60页 |
| 3.3.1 镀液pH值对镀层形貌和成分的影响 | 第55-57页 |
| 3.3.2 镀液pH值对镀层组织结构的影响 | 第57页 |
| 3.3.3 镀液pH值对镀层粗糙度的影响 | 第57-58页 |
| 3.3.4 镀液pH值对镀层硬度的影响 | 第58页 |
| 3.3.5 镀液pH值对镀层耐蚀性的影响 | 第58-60页 |
| 3.4 电沉积温度对Ni-Mo合金镀层性能的影响 | 第60-68页 |
| 3.4.1 电沉积温度对镀层形貌的影响 | 第61-62页 |
| 3.4.2 电沉积温度对镀层成分的影响 | 第62-63页 |
| 3.4.3 电沉积温度对镀层结构的影响 | 第63-64页 |
| 3.4.4 电沉积温度对镀层镀层粗糙度的影响 | 第64-65页 |
| 3.4.5 电沉积温度对镀层硬度的影响 | 第65-66页 |
| 3.4.6 电沉积温度对镀层耐蚀性能的影响 | 第66-68页 |
| 3.5 电流密度对Ni-Mo合金镀层性能的影响 | 第68-74页 |
| 3.5.1 电流密度对镀层形貌的影响 | 第68-69页 |
| 3.5.2 电流密度对镀层成分的影响 | 第69-70页 |
| 3.5.3 电流密度对镀层结构的影响 | 第70页 |
| 3.5.4 电流密度对镀层粗糙度的影响 | 第70-71页 |
| 3.5.5 电流密度对镀层硬度的影响 | 第71-72页 |
| 3.5.6 电流密度对镀层耐蚀性的影响 | 第72-74页 |
| 3.6 Ni-Mo合金镀层微区电化学性能的SVET初步研究 | 第74-78页 |
| 3.6.1 浸泡初期的变化情况 | 第75-76页 |
| 3.6.2 浸泡中期的变化情况 | 第76-77页 |
| 3.6.3 浸泡后期的变化情况 | 第77-78页 |
| 3.6.4 小结 | 第78页 |
| 3.7 本章小结 | 第78-81页 |
| 第四章 响应面法优化Ni-Mo电沉积工艺条件 | 第81-92页 |
| 4.1 引言 | 第81页 |
| 4.2 BBD模型建立及测量结果 | 第81-83页 |
| 4.3 BBD模型拟合分析 | 第83-84页 |
| 4.4 BBD模型响应面分析 | 第84-90页 |
| 4.5 最佳电沉积条件的确定 | 第90-91页 |
| 4.6 本章小结 | 第91-92页 |
| 第五章 Ni-Mo二元合金镀层表面钝化性能的研究 | 第92-104页 |
| 5.1 引言 | 第92页 |
| 5.2 Ni-Mo合金镀层制备 | 第92-93页 |
| 5.3 Ni-Mo合金镀层钝化性能研究 | 第93-98页 |
| 5.3.1 动电位极化曲线 | 第93-94页 |
| 5.3.2 恒电位计时电流曲线（i-t图） | 第94-95页 |
| 5.3.3 电化学阻抗谱 | 第95-98页 |
| 5.4 合金镀层表面钝化膜半导体性能 | 第98-100页 |
| 5.5 合金镀层表面钝化膜点缺陷扩散系数 | 第100-102页 |
| 5.6 本章小结 | 第102-104页 |
| 第六章 电沉积制备Ni-Cu-Mo三元合金镀层及其性能研究 | 第104-112页 |
| 6.1 引言 | 第104页 |
| 6.2 Ni-Cu-Mo三元合金镀层的成分分析 | 第104-105页 |
| 6.3 Ni-Cu-Mo三元合金镀层的XRD分析 | 第105-106页 |
| 6.4 Ni-Cu-Mo三元合金镀层的表面形貌分析 | 第106-107页 |
| 6.5 Ni-Cu-Mo三元合金镀层的表面粗糙度分析 | 第107-108页 |
| 6.6 Ni-Cu-Mo三元合金镀层的腐蚀电化学分析 | 第108-111页 |
| 6.7 本章小结 | 第111-112页 |
| 第七章 Ni-Mo-X (GO、nano SiO_2、nano Al_2O_3)复合镀层的制备与性能研究 | 第112-134页 |
| 7.1 引言 | 第112-113页 |
| 7.2 Ni-Mo-GO复合镀层的制备与性能研究 | 第113-122页 |
| 7.2.1 GO的制备 | 第113页 |
| 7.2.2 GO的表征 | 第113-115页 |
| 7.2.3 Ni-Mo-GO复合镀层的制备 | 第115-116页 |
| 7.2.4 Ni-Mo-GO复合镀层结构研究 | 第116-117页 |
| 7.2.5 Ni-Mo-GO复合镀层表面形貌 | 第117-118页 |
| 7.2.6 Ni-Mo-GO复合镀层的硬度 | 第118-119页 |
| 7.2.7 Ni-Mo-GO复合镀层的粗糙度 | 第119页 |
| 7.2.8 Ni-Mo-GO复合镀层腐蚀电化学研究 | 第119-122页 |
| 7.3 Ni-Mo-SiO_2复合镀层的制备与性能研究 | 第122-128页 |
| 7.3.1 Ni-Mo-SiO_2复合镀层表面形貌 | 第122-123页 |
| 7.3.2 Ni-Mo-SiO_2复合镀层结构研究 | 第123-124页 |
| 7.3.3 Ni-Mo-SiO_2复合镀层的硬度 | 第124-125页 |
| 7.3.4 Ni-Mo-SiO_2复合镀层的粗糙度 | 第125页 |
| 7.3.5 Ni-Mo-SiO_2复合镀层耐蚀性能的研究 | 第125-128页 |
| 7.4 Ni-Mo-Al_2O_3复合镀层的制备与性能研究 | 第128-133页 |
| 7.4.1 Ni-Mo- Al_2O_3复合镀层表面形貌 | 第128-129页 |
| 7.4.2 Ni-Mo-Al_2O_3复合镀层的硬度 | 第129-130页 |
| 7.4.3 Ni-Mo-Al_2O_3复合镀层的粗糙度 | 第130-131页 |
| 7.4.4 Ni-Mo-Al_2O_3复合镀层耐蚀性能的研究 | 第131-133页 |
| 7.5 本章小结 | 第133-134页 |
| 第八章 结论与展望 | 第134-139页 |
| 8.1 主要结论 | 第134-138页 |
| 8.2 展望 | 第138-139页 |
| 参考文献 | 第139-162页 |
| 作者在攻读博士学位期间公开发表的论文 | 第162-163页 |
| 致谢 | 第163-164页 |
