A1GaInP大功率红光发光二极管的研发
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 1 绪论 | 第7-17页 |
| ·课题研究的背景及意义 | 第7-11页 |
| ·AlGaInP发光二极管的国内外发展现状与趋势 | 第11-17页 |
| 2 红光高亮大功率发光二极管基本工艺技术的设计 | 第17-30页 |
| ·红光高亮大功率发光二极管的基本结构设计 | 第17-19页 |
| ·外延材料的生长 | 第19-26页 |
| ·外延片制造技术基本原理 | 第19-20页 |
| ·AlGaInP外延材料能带结构 | 第20-21页 |
| ·关键技术及创新点 | 第21-22页 |
| ·主要技术路线 | 第22-26页 |
| ·红光高亮大功率发光二极管器件的制备工艺流程 | 第26-28页 |
| ·本章小结 | 第28-30页 |
| 3 红光高亮大功率发光二极管关键工艺技术的改进 | 第30-50页 |
| ·ODR全方位反射镜的设计 | 第30-33页 |
| ·欧姆接触层的研究 | 第33-35页 |
| ·P型欧姆接触 | 第33-35页 |
| ·N型欧姆接触 | 第35页 |
| ·P/N面电极的设计 | 第35-41页 |
| ·P面触点设计 | 第36-40页 |
| ·N电极的设计 | 第40-41页 |
| ·PAD结构优化 | 第41页 |
| ·高透过率导电层ITO的研究 | 第41-45页 |
| ·表面粗化技术 | 第45-47页 |
| ·本章小结 | 第47-50页 |
| 结论 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-53页 |
| 致谢 | 第53-54页 |