纳米Ni-P合金膜的化学镀制备
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第一章 前言 | 第10-32页 |
| ·化学镀的发现阶段 | 第11-13页 |
| ·早期发展阶段(1940年中期到1959年) | 第13-15页 |
| ·缓慢发展阶段(1960-1979) | 第15-17页 |
| ·化学镀膜液的改善 | 第16页 |
| ·各种化学镀金属 | 第16页 |
| ·化学镀铜 | 第16-17页 |
| ·沉积基底 | 第17页 |
| ·应用 | 第17页 |
| ·快速发展阶段(1980-1999) | 第17-19页 |
| ·复合镀与纳米化学镀阶段 | 第19-22页 |
| ·三元及多元合金和复合材料的研究 | 第19-20页 |
| ·化学镀在中国的研究开始以及快速发展 | 第20-21页 |
| ·纳米化学镀的兴起以及快速发展 | 第21-22页 |
| ·化学镀本质及沉积属性研究 | 第22-27页 |
| ·化学镀本质研究 | 第22-24页 |
| ·化学镀沉积属性的研究 | 第24-27页 |
| ·Ni-P合金膜的化学镀制备基本原理 | 第27-31页 |
| ·电化学原理 | 第27-28页 |
| ·原子氢原理 | 第28-29页 |
| ·羟基—镍离子配位原理 | 第29-30页 |
| ·氢化物传输原理 | 第30-31页 |
| ·本章小结 | 第31-32页 |
| 第二章 纳米Ni-P合金膜的化学镀制备实施方案 | 第32-42页 |
| ·方案实施目的 | 第32页 |
| ·纳米化学镀膜液选择与实施方案 | 第32-33页 |
| ·实验采用的药品、仪器及其它设备 | 第33-34页 |
| ·实验的药品 | 第33页 |
| ·实验仪器以及设备 | 第33-34页 |
| ·实验工艺流程及步骤 | 第34-40页 |
| ·试样准备 | 第35-36页 |
| ·化学纳米镀膜前处理 | 第36-37页 |
| ·镀液配制方法 | 第37-38页 |
| ·纳米化学镀膜及后续处理 | 第38-39页 |
| ·化学纳米镀膜实施步骤 | 第39-40页 |
| ·本章小结 | 第40-42页 |
| 第三章 化学镀纳米Ni-P合金的影响因素及其分析 | 第42-56页 |
| ·化学镀纳米Ni-P合金镀液配方 | 第42页 |
| ·施镀时间影响及其分析 | 第42-44页 |
| ·所采取的实验工艺条件 | 第42页 |
| ·实验数据记录及结果分析 | 第42-44页 |
| ·主盐浓度的影响及其分析 | 第44-47页 |
| ·所采取的实验实施条件 | 第45页 |
| ·实验数据记录及结果分析 | 第45-47页 |
| ·还原剂浓度的影响及其分析 | 第47-51页 |
| ·还原剂的选用 | 第47-48页 |
| ·所采取的实验实施条件 | 第48-49页 |
| ·实验数据记录及结果分析 | 第49-51页 |
| ·络合剂浓度的影响及其分析 | 第51-54页 |
| ·络合剂的选用 | 第51页 |
| ·所采取的实验条件 | 第51-52页 |
| ·实验数据记录及结果分析 | 第52-54页 |
| ·本章总结 | 第54-56页 |
| 第四章 Ni-P合金膜的SEM与成分分析 | 第56-64页 |
| ·SEM形貌分析 | 第56-59页 |
| ·EDS能谱分析 | 第59-63页 |
| ·本章总结 | 第63-64页 |
| 第五章 结论及展望 | 第64-66页 |
| ·结论 | 第64页 |
| ·展望 | 第64-66页 |
| 参考文献 | 第66-76页 |
| 致谢 | 第76-77页 |
