基于纳米压印技术的亚波长抗反射结构光学器件研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-20页 |
| ·研究背景与意义 | 第9-12页 |
| ·抗反射技术 | 第9-10页 |
| ·亚波长抗反射结构的应用 | 第10-12页 |
| ·亚波长抗反射结构的制作方法 | 第12-16页 |
| ·制作方法概述 | 第12-13页 |
| ·纳米压印技术 | 第13-15页 |
| ·刻蚀技术 | 第15-16页 |
| ·国内外研究进展 | 第16-18页 |
| ·本论文主要研究内容 | 第18-20页 |
| 第二章 亚波长抗反射结构光学器件的理论研究 | 第20-40页 |
| ·严格耦合波理论 | 第20-27页 |
| ·二维单台阶亚波长结构的抗反射特性研究 | 第27-30页 |
| ·数值稳定性 | 第27-28页 |
| ·零级衍射及单台阶结构的缺陷 | 第28-30页 |
| ·二维连续面型亚波长结构的抗反射特性研究 | 第30-35页 |
| ·结构参数对反射率的影响 | 第31-33页 |
| ·排列方式对反射率的影响 | 第33-35页 |
| ·三种波段范围的结构设计 | 第35-37页 |
| ·容差率分析 | 第37-39页 |
| ·本章小结 | 第39-40页 |
| 第三章 亚波长抗反射结构光学器件的实验研究 | 第40-58页 |
| ·模板及刻蚀气体的选择 | 第40-41页 |
| ·模板的选择 | 第40页 |
| ·刻蚀气体的选择 | 第40-41页 |
| ·基于热压印技术的亚波长结构制备 | 第41-52页 |
| ·衬底处理 | 第43-44页 |
| ·模板处理 | 第44-45页 |
| ·匀胶 | 第45-46页 |
| ·热压印 | 第46-48页 |
| ·去除残胶 | 第48页 |
| ·剥离工艺 | 第48-49页 |
| ·刻蚀 | 第49-52页 |
| ·基于紫外压印技术的亚波长结构制备 | 第52-57页 |
| ·匀胶 | 第52-53页 |
| ·紫外压印 | 第53-54页 |
| ·去除残胶 | 第54-55页 |
| ·剥离工艺 | 第55页 |
| ·刻蚀 | 第55-57页 |
| ·本章小结 | 第57-58页 |
| 第四章 亚波长抗反射结构光学器件的性能测试 | 第58-65页 |
| ·单面反射特性的测量方法 | 第58-59页 |
| ·反射特性测试 | 第59-64页 |
| ·原始玻璃 | 第59-62页 |
| ·玻璃样品 | 第62-64页 |
| ·本章小结 | 第64-65页 |
| 第五章 总结与展望 | 第65-67页 |
| ·工作总结 | 第65-66页 |
| ·后续工作展望 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-74页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第74-75页 |
| 致谢 | 第75-76页 |
