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立方氮化硼薄膜的相变和光、电性能研究

摘要第1-6页
ABSTRACT第6-9页
目录第9-12页
第1章 绪论第12-34页
   ·宽带隙半导体研究第12-18页
   ·氮化硼的结构、性质和应用第18-24页
     ·氮化硼的异构体第18-20页
     ·立方氮化硼(c-BN)第20-23页
     ·六方氮化硼(h-BN)第23-24页
   ·c-BN薄膜的研究历史与现状第24-26页
   ·c-BN薄膜研究中存在的问题第26-28页
     ·成核、生长与相变机理尚无定论第26页
     ·高质量薄膜外延生长困难第26-27页
     ·薄膜与衬底间粘附性较差第27页
     ·薄膜制备的可重复性较低第27-28页
   ·本论文的研究内容与思路第28-29页
 参考文献第29-34页
第2章 薄膜样品的制备和表征方法第34-52页
   ·薄膜样品的溅射制备第34-44页
     ·溅射的基本原理第34-39页
     ·溅射镀膜第39-42页
     ·溅射系统第42-44页
   ·薄膜的结构表征和物理性能测量第44-50页
     ·薄膜的结构分析第44-47页
     ·薄膜的成分分析第47-48页
     ·薄膜的形貌观察第48-49页
     ·薄膜的光学性能测量第49页
     ·薄膜的厚度测量第49-50页
     ·薄膜的电学性能测量第50页
   ·本章小结第50-51页
 参考文献第51-52页
第3章 射频溅射制备c-BN薄膜及其相变研究第52-78页
   ·引言第52-53页
   ·BN薄膜沉积过程中的相变理论第53-65页
     ·氮化硼的相变第53-61页
     ·缺陷对制备c-BN薄膜的影响第61-65页
   ·"两步法"溅射制备c-BN薄膜第65-70页
     ·实验第65-67页
     ·结果与分析第67-70页
   ·"三步法"溅射制备c-BN薄膜第70-74页
     ·实验第71页
     ·结果与分析第71-74页
   ·本章小结第74-75页
 参考文献第75-78页
第4章 BN薄膜高温相变的红外光谱研究第78-96页
   ·引言第78页
   ·BN薄膜的退火诱导相变第78-91页
     ·引言第78-80页
     ·实验过程第80-83页
     ·结果与分析第83-91页
   ·退火诱导相变的对比实验第91-93页
     ·混合相BN(E-BN)薄膜的退火相变第91-92页
     ·BN薄膜的真空退火相变第92-93页
   ·本章小结第93-94页
 参考文献第94-96页
第5章 BN薄膜的光学特性研究第96-120页
   ·h-BN薄膜的光学性质第96-106页
     ·引言第96-98页
     ·实验过程第98-100页
     ·结果与分析第100-106页
   ·BN薄膜光学性质的温度依赖关系第106-116页
     ·引言第106-107页
     ·实验过程第107-108页
     ·结果与分析第108-116页
   ·本章小结第116-117页
 参考文献第117-120页
第6章 BN薄膜的掺杂研究第120-136页
   ·离子注入第120-126页
     ·半导体掺杂第120-121页
     ·半导体离子注入掺杂第121-126页
   ·铍注入掺杂BN薄膜的电学特性第126-131页
     ·实验第127页
     ·注入剂量对BN薄膜电阻率的影响第127-128页
     ·退火温度对BN薄膜电阻率的影响第128-130页
     ·立方相含量对BN薄膜电阻率的影响第130-131页
   ·锌注入掺杂的c-BN薄膜欧姆接触特性第131-135页
     ·实验第132-133页
     ·结果与分析第133-135页
   ·本章小节第135页
 参考文献第135-136页
结论与展望第136-138页
研究生在读期间发表的国家发明专利和学术论文第138-140页
 国家发明专利第138页
 学术论文第138-140页
致谢第140页

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