| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-14页 |
| 第一章 绪论 | 第14-36页 |
| ·引言 | 第14-15页 |
| ·非线性光学简介 | 第15-17页 |
| ·二阶非线性光学效应的基本原理及应用 | 第17-20页 |
| ·有机二阶非线性光学材料 | 第20-34页 |
| ·发展概述 | 第20-23页 |
| ·二阶非线性发色团 | 第23-28页 |
| ·二阶非线性发色团的分子设计 | 第23-26页 |
| ·二阶非线性光学发色团的研究进展 | 第26-28页 |
| ·极化聚合物材料 | 第28-32页 |
| ·二阶非线性光学自组装膜材料 | 第32-34页 |
| ·本课题的研究思路和主要研究内容 | 第34-36页 |
| 第二章 非线性聚合物的极化方法和二阶非线性极化率的测定 | 第36-50页 |
| ·非线性光学聚合物的极化 | 第36-41页 |
| ·极化机理和种类 | 第36-37页 |
| ·热极化 | 第37-38页 |
| ·电晕极化 | 第38-40页 |
| ·光辅助极化 | 第40-41页 |
| ·全光极化 | 第41页 |
| ·二阶非线性极化率的测定 | 第41-47页 |
| ·发色团分子二阶非线性极化率的测定 | 第41-43页 |
| ·材料宏观非线性系数的测定 | 第43-47页 |
| ·SHG系数d_(33)和马克(Maker)条纹法 | 第43-45页 |
| ·电光系数和简单反射法 | 第45-47页 |
| ·微观二阶非线性极化率与宏观非线性光学系数的关系 | 第47-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 第三章 新型三氰基二氢呋喃衍生物光谱特性和热性能的研究 | 第50-68页 |
| ·引言 | 第50页 |
| ·基本概念 | 第50-54页 |
| ·吸收光谱 | 第50-52页 |
| ·荧光发射光谱 | 第52-53页 |
| ·荧光参数 | 第53页 |
| ·溶致变色效应 | 第53-54页 |
| ·新型三氰基二氢呋喃发色团DCDHF-2-V的设计合成 | 第54-55页 |
| ·DCDHF-2-V分子吸收光谱与荧光发射光谱的测量 | 第55-63页 |
| ·实验用试剂与仪器 | 第55-56页 |
| ·实验方法 | 第56页 |
| ·不同极性溶剂中DCDHF-2-V分子的光谱特性 | 第56-62页 |
| ·薄膜状态下DCDHF-2-V分子的光谱特性 | 第62-63页 |
| ·二阶非线性极化率的计算 | 第63-65页 |
| ·热性能分析 | 第65-66页 |
| ·本章小结 | 第66-68页 |
| 第四章 二阶非线性光学聚合物膜的制备与性能研究 | 第68-90页 |
| ·引言 | 第68页 |
| ·掺杂型聚合物膜DCDHF-2-V/PMMA的制备及性能研究 | 第68-77页 |
| ·实验用材料和仪器 | 第68-69页 |
| ·制备工艺研究 | 第69-70页 |
| ·透光性 | 第70-71页 |
| ·折射率 | 第71-73页 |
| ·热稳定性分析 | 第73-77页 |
| ·DCDHF-2-V/PMMA聚合物膜电晕极化研究 | 第77-82页 |
| ·电晕极化实验 | 第77-78页 |
| ·极化过程的研究 | 第78-82页 |
| ·DCDHF-2-V/PMMA聚合物膜二次谐波系数的测量 | 第82-85页 |
| ·掺杂型极化聚合物膜GW-1-SP/PMMA的制备及性能研究 | 第85-86页 |
| ·含三氰基二氢呋喃结构单元的聚合物材料的制备及性能的初步研究 | 第86-89页 |
| ·实验药品 | 第87页 |
| ·聚合物P1的合成 | 第87页 |
| ·聚合物膜的制备及性能研究 | 第87-89页 |
| ·本章小结 | 第89-90页 |
| 第五章 高热稳定性二阶非线性光学自组装薄膜的制备研究 | 第90-98页 |
| ·引言 | 第90-91页 |
| ·DR/PAZO多层膜的制备 | 第91-93页 |
| ·实验药品和仪器 | 第91页 |
| ·重氮树脂的合成 | 第91-92页 |
| ·自组装膜的制备 | 第92-93页 |
| ·DR/PAZO多层膜的紫外可见光谱及其光反应 | 第93-95页 |
| ·DR/PAZO多层膜的二阶非线性光学性质及稳定性的研究 | 第95-97页 |
| ·光照前后自组装膜抗溶剂刻蚀能力的测试 | 第95-96页 |
| ·自组装膜热稳定性及非线性光学性质的测试 | 第96-97页 |
| ·本章小结 | 第97-98页 |
| 第六章 聚合物光波导的制作与研究 | 第98-109页 |
| ·引言 | 第98-99页 |
| ·材料的选择与性质 | 第99页 |
| ·波导膜的色散 | 第99-100页 |
| ·聚合物脊型光波导的制作过程 | 第100-103页 |
| ·衬底的选择与清洗 | 第101-102页 |
| ·下包层的制备、光刻 | 第102页 |
| ·反应离子刻蚀 | 第102-103页 |
| ·芯层和上包层的旋涂 | 第103页 |
| ·波导的测试 | 第103-104页 |
| ·M-Z型电光调制器 | 第104-108页 |
| ·M-Z光波导的电光调制器原理 | 第104-106页 |
| ·M-Z型电光调制器的数值模拟 | 第106-108页 |
| ·本章小结 | 第108-109页 |
| 第七章 结论与展望 | 第109-113页 |
| ·全文工作总结 | 第109-111页 |
| ·前景展望 | 第111-113页 |
| 致谢 | 第113-114页 |
| 参考文献 | 第114-128页 |
| 攻读博士学位期间取得的研究成果 | 第128-129页 |
