| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-17页 |
| ·课题来源及意义 | 第8-9页 |
| ·课题来源 | 第8页 |
| ·课题研究意义 | 第8-9页 |
| ·蓝宝石晶片的发展与研究现状 | 第9-14页 |
| ·超光滑加工技术研究综述 | 第14-16页 |
| ·超光滑表面加工技术的发展 | 第14-15页 |
| ·超光滑表面加工机理 | 第15-16页 |
| ·课题研究的内容 | 第16-17页 |
| 第二章 蓝宝石晶片化学机械抛光的运动仿真 | 第17-43页 |
| ·引言 | 第17页 |
| ·单面化学机械抛光运动仿真 | 第17-26页 |
| ·单面化学机械抛光加工机理 | 第17-18页 |
| ·工件盘角速度的确定 | 第18-22页 |
| ·抛光运动轨迹分析与仿真 | 第22-26页 |
| ·铰链四杆机构驱动的单面抛光运动仿真 | 第26-34页 |
| ·抛光加工机理 | 第26-27页 |
| ·抛光运动轨迹与仿真 | 第27-34页 |
| ·双面研磨抛光运动过程分析及仿真 | 第34-41页 |
| ·双面化学机械研磨抛光的加工机理 | 第34-36页 |
| ·抛光运动轨迹方程的建立 | 第36-38页 |
| ·ω_a、ω_p 、ω_t 及ω_w 四者关系的确定 | 第38-39页 |
| ·仿真结果及讨论 | 第39-41页 |
| ·本章小结 | 第41-43页 |
| 第三章 蓝宝石晶片化学机械抛光的流体仿真 | 第43-58页 |
| ·引言 | 第43页 |
| ·理论分析 | 第43-44页 |
| ·流体分析方法 | 第44-51页 |
| ·分析设备 | 第44-45页 |
| ·分析步骤 | 第45页 |
| ·网格系统的选择 | 第45-51页 |
| ·仿真分析结果及讨论 | 第51-56页 |
| ·本章小结 | 第56-58页 |
| 第四章 蓝宝石晶片超光滑加工实验研究 | 第58-80页 |
| ·蓝宝石晶片的技术要求 | 第58-59页 |
| ·蓝宝石晶片的制备工艺技术路线 | 第59-60页 |
| ·蓝宝石晶片的磨片技术研究 | 第60-62页 |
| ·晶片的清洗 | 第62-63页 |
| ·蓝宝石晶片粘贴 | 第63-64页 |
| ·蓝宝石晶片的精密研磨工艺 | 第64-70页 |
| ·蓝宝石晶片的双面精密研磨原理 | 第64-65页 |
| ·研磨设备的确定 | 第65-66页 |
| ·研磨液的选择 | 第66-68页 |
| ·实验结果及讨论 | 第68-70页 |
| ·蓝宝石晶片的无损伤抛光的方法 | 第70-78页 |
| ·蓝宝石晶片的无损伤抛光的方法 | 第70页 |
| ·化学机械抛光原理 | 第70-72页 |
| ·抛光设备的确定 | 第72-74页 |
| ·试验结果及讨论 | 第74-78页 |
| ·本章小结 | 第78-80页 |
| 第五章 总结和展望 | 第80-82页 |
| ·对研究工作的总结 | 第80-81页 |
| ·进一步研究工作 | 第81-82页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第82-83页 |
| 参考文献 | 第83-85页 |
| 附录Ⅰ 单面抛光轨迹仿真程序清单 | 第85-86页 |
| 附录Ⅱ 双面抛光轨迹仿真程序清单 | 第86-87页 |
| 附录Ⅲ 铰链四杆机构驱动的单面抛光轨迹仿真程序清单 | 第87-89页 |
| 致谢 | 第89-91页 |
| 详细摘要 | 第91-93页 |