| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-27页 |
| ·无机膜的特点及现状 | 第7-8页 |
| ·钯复合膜的研究进展 | 第8-18页 |
| ·钯复合膜的研究现状 | 第8页 |
| ·钯膜透氢原理 | 第8-11页 |
| ·钯复合膜的主要制备方法 | 第11-18页 |
| ·超临界流体条件下制备钯膜 | 第18-26页 |
| ·超临界流体特性 | 第18-20页 |
| ·超临界二氧化碳 | 第20-23页 |
| ·超临界流体法 | 第23-26页 |
| ·本课题的研究内容及意义 | 第26-27页 |
| 第二章 Pd 膜的SFD 生长及表征方法 | 第27-41页 |
| ·制备 | 第27-30页 |
| ·主要原料 | 第27页 |
| ·主要试验装备 | 第27-28页 |
| ·试验装备的安装与调试 | 第28-30页 |
| ·表征与测试 | 第30页 |
| ·微观形貌观测结果 | 第30页 |
| ·物相分析结果 | 第30页 |
| ·结果与讨论 | 第30-40页 |
| ·前驱体和还原剂 | 第32-34页 |
| ·反应条件 | 第34-38页 |
| ·沉积位置和微结构 | 第38-40页 |
| ·本章小结 | 第40-41页 |
| 第三章 Pd 膜的Electroless Plating—SFD 生长及表征 | 第41-48页 |
| ·引入晶种过程 | 第41-42页 |
| ·敏化、活化液组成及工艺条件 | 第41-42页 |
| ·结果与讨论 | 第42-47页 |
| ·生长周期与钯原子含量 | 第42-43页 |
| ·钯层表面形貌与微结构 | 第43-45页 |
| ·引入晶种对膜品质的影响 | 第45-47页 |
| ·本章小结 | 第47-48页 |
| 第四章 设备调整（同向连续过程） | 第48-55页 |
| ·进料方式的改变 | 第48-50页 |
| ·膜组件 | 第49-50页 |
| ·试验操作 | 第50页 |
| ·结果与讨论 | 第50-54页 |
| ·钯层表面形貌与微结构 | 第50-53页 |
| ·改变进料方式对膜品质的影响 | 第53-54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 第五章 结论 | 第55-57页 |
| ·工作总结 | 第55-56页 |
| ·试验不足之处与建议 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-64页 |
| 发表论文和科研情况说明 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65页 |