| 中文摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-47页 |
| §1.1 半导体材料简介 | 第11-16页 |
| ·半导体材料的分类 | 第12页 |
| ·半导体的晶体结构 | 第12-14页 |
| ·半导体的光学性质 | 第14-15页 |
| ·半导体中的杂质和缺陷 | 第15-16页 |
| §1.2 电沉积半导体材料研究进展 | 第16-30页 |
| ·研究综述 | 第17-20页 |
| ·基本原理 | 第20-23页 |
| ·典型实例 | 第23-30页 |
| §1.3 离子液体简介 | 第30-37页 |
| ·离子液体定义 | 第30-32页 |
| ·离子液体的种类 | 第32-33页 |
| ·离子液体的物理化学特性 | 第33-35页 |
| ·离子液体和常用电解液的比较 | 第35页 |
| ·离子液体的应用 | 第35-37页 |
| §1.4 本论文的研究意义和研究内容 | 第37-38页 |
| 参考文献 | 第38-47页 |
| 第二章 实验中的表征技术及原理 | 第47-57页 |
| §2.1 引言 | 第47页 |
| §2.2 X射线衍射法(XRD) | 第47-49页 |
| §2.3 透射电子显微镜(TEM) | 第49-50页 |
| §2.4 电子衍射法(ED) | 第50-52页 |
| §2.5 扫描电子显微镜(SEM) | 第52-53页 |
| §2.6 X射线能量色散谱(EDS) | 第53-54页 |
| §2.7 光致发光(PL) | 第54-57页 |
| 第三章 离子液体中电沉积形貌可控的Cu_2O薄膜 | 第57-87页 |
| §3.1 引言 | 第57-58页 |
| §3.2 电沉积Cu_2O薄膜与表征 | 第58-60页 |
| ·试剂与仪器 | 第58-59页 |
| ·实验方法 | 第59页 |
| ·离子液体对Cu_2O晶体形貌的调控 | 第59-60页 |
| §3.3 结果与讨论 | 第60-78页 |
| ·Cu_2O薄膜的XRD表征 | 第60-61页 |
| ·Cu_2O薄膜的SEM表征 | 第61页 |
| ·Cu_2O薄膜的TEM表征 | 第61-64页 |
| ·离子液体对Cu_2O晶体形貌的调控 | 第64-70页 |
| ·沉积时间对Cu_2O形貌的影响 | 第70-75页 |
| ·沉积温度对Cu_2O形貌的影响 | 第75-78页 |
| §3.4 离子液体调控Cu_2O形貌的机理分析 | 第78-79页 |
| §3.5 离子液体对Cu_2O形貌调控的验证 | 第79-83页 |
| ·Cu_2O薄膜的XRD表征 | 第79-81页 |
| ·Cu_2O薄膜的SEM表征 | 第81-83页 |
| §3.6 本章小结 | 第83页 |
| 参考文献 | 第83-87页 |
| 第四章 在ITO导电衬底上电沉积高取向的CuBr | 第87-103页 |
| §4.1 引言 | 第87页 |
| §4.2 电沉积法制备高导向CuBr薄膜 | 第87-90页 |
| ·试剂与仪器 | 第87-88页 |
| ·实验方法 | 第88-90页 |
| §4.3 结果与讨论 | 第90-100页 |
| ·以CuBr_2水溶液为电解液制备CuBr | 第90-96页 |
| ·以Cu(NO_3)_2和KBr混合溶液为电解液制备CuBr | 第96-100页 |
| §4.4 本章小结 | 第100页 |
| 参考文献 | 第100-103页 |
| 第五章 通过电沉积Cu_2O化学反应转化制备CuBr | 第103-114页 |
| §5.1 引言 | 第103页 |
| §5.2 CuBr薄膜的制备 | 第103-105页 |
| ·试剂与仪器 | 第103-104页 |
| ·实验方法 | 第104-105页 |
| §5.3 结果与讨论 | 第105-112页 |
| ·实验1所得产物的XRD表征 | 第105页 |
| ·实验1所得产物的SEM表征 | 第105-106页 |
| ·实验2所得产物的XRD表征 | 第106-108页 |
| ·实验2所得产物的SEM表征 | 第108-110页 |
| ·实验3所得产物的XRD表征 | 第110-111页 |
| ·实验3所得产物的SEM表征 | 第111-112页 |
| §5.4 本章小结 | 第112页 |
| 参考文献 | 第112-114页 |
| 结论 | 第114-117页 |
| 附录Ⅰ 博士期间发表和送审的论文 | 第117-118页 |
| 附录Ⅱ 致谢 | 第118-120页 |