| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-9页 |
| 目录 | 第9-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-28页 |
| ·过程参数检测的意义 | 第11-13页 |
| ·过程成像技术的发展历史 | 第13-14页 |
| ·过程成像技术的特点及分类 | 第14-21页 |
| ·过程成像技术的特点 | 第14-15页 |
| ·过程成像技术的分类 | 第15-21页 |
| ·电容层析成像的研究热点、存在的问题及展望 | 第21-26页 |
| ·研究热点 | 第21-24页 |
| ·存在问题 | 第24页 |
| ·发展展望 | 第24-26页 |
| ·本文的主要工作 | 第26-28页 |
| 第二章 电容层析成像技术 | 第28-49页 |
| ·拉冬(RADON)变换和拉冬逆变换的基本原理 | 第28-30页 |
| ·电容层析成像系统构成 | 第30页 |
| ·电容测量电路 | 第30页 |
| ·电容层析成像正问题 | 第30-32页 |
| ·电容层析成像逆问题 | 第32-48页 |
| ·敏感场简介 | 第33-34页 |
| ·图像重建准则 | 第34-37页 |
| ·非迭代法 | 第37-40页 |
| ·常规迭代类图像重建算法 | 第40-45页 |
| ·智能优化图像重建技术 | 第45-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 第三章 多相流流型的电容层析成像图像重建算法 | 第49-60页 |
| ·TIKHONOV图像重建算法比较 | 第49-54页 |
| ·图像重建算法比较与评价 | 第54-57页 |
| ·LANDWEBER迭代法在多孔内框架结构成像中的应用研究 | 第57-59页 |
| ·本章小结 | 第59-60页 |
| 第四章 电容层析成像传感器结构设计 | 第60-77页 |
| ·电容传感器的结构 | 第60-62页 |
| ·电容层析成像传感器优化设计 | 第62-69页 |
| ·传感器结构参数优化目标函数 | 第62-63页 |
| ·传感器结构参数均匀设计 | 第63-66页 |
| ·LS-SVM回归 | 第66-69页 |
| ·小尺度电容层析成像传感器结构分析 | 第69-76页 |
| ·微小尺度传感器结构 | 第69-70页 |
| ·不同径向电极在新型小尺度传感器结构中的作用 | 第70-73页 |
| ·电极间绝缘介质对微小尺度传感器的影响 | 第73-74页 |
| ·屏蔽罩与电极间的距离对微小尺度传感器的影响 | 第74-76页 |
| ·本章小结 | 第76-77页 |
| 第五章 电容层析成像系统特殊标定方法研究与应用 | 第77-97页 |
| ·常规归一化方法及原理 | 第77-79页 |
| ·内置电极标定方法在代用炸药压制成型工艺中的应用 | 第79-85页 |
| ·通道型多孔介质火焰测量中的标定方法研究 | 第85-96页 |
| ·本章小结 | 第96-97页 |
| 第六章 结论与展望 | 第97-100页 |
| ·结论 | 第97-98页 |
| ·展望 | 第98-100页 |
| 参考文献 | 第100-111页 |
| 博士研究生在读期间参加的科研课题 | 第111页 |
| 博士研究生在读期间发表的论文 | 第111-113页 |
| 致谢 | 第113页 |