可变线宽的无掩膜光刻理论与技术研究
| 致谢 | 第1-5页 |
| 中文摘要 | 第5-6页 |
| 英文摘要 | 第6-7页 |
| 论文贡献与创新 | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-30页 |
| ·微光学的发展 | 第8-11页 |
| ·掩膜光刻技术 | 第11-15页 |
| ·无掩膜光刻技术 | 第15-18页 |
| ·激光图形发生器 | 第18-24页 |
| ·本论文的研究内容 | 第24-26页 |
| 参考文献 | 第26-30页 |
| 第二章 无掩膜光刻系统总体组成 | 第30-41页 |
| ·激光图形发生器主要结构与机械设计 | 第30-35页 |
| ·系统电气控制 | 第35-37页 |
| ·套刻对准机构 | 第37页 |
| ·干法刻蚀设备 | 第37-39页 |
| 参考文献 | 第39-41页 |
| 第三章 无掩膜光刻调焦系统的光学原理与设计 | 第41-75页 |
| ·基于能量信息的离焦信号的稳定性研究 | 第41-45页 |
| ·基于四象限探测器的象散调焦方案 | 第45-49页 |
| ·基于单象限探测器的共焦调焦方案 | 第49-53页 |
| ·基于二象限探测器的离轴调焦方案及FES算法选择 | 第53-57页 |
| ·光路参数的设计优化 | 第57-59页 |
| ·探测器的死区及有限边界问题 | 第59-61页 |
| ·阿贝设计原则与光斑移动 | 第61-64页 |
| ·调焦光束椭圆化 | 第64-67页 |
| ·高斯型束斑分析 | 第67-69页 |
| ·微动工作台的物理模型及分析 | 第69-72页 |
| 参考文献 | 第72-75页 |
| 第四章 可变线宽的无掩膜离焦光刻理论 | 第75-101页 |
| ·多线宽微细线条制作 | 第75-78页 |
| ·高斯光束的传播及聚焦理论 | 第78-82页 |
| ·激光束动态扫描的线宽数学模型 | 第82-83页 |
| ·离焦与线宽的均匀线性模型 | 第83-86页 |
| ·离焦与线宽的高斯模型 | 第86-90页 |
| ·基于过曝光理论的稳定线宽研究 | 第90-95页 |
| ·连续离焦光刻的深入探讨 | 第95-99页 |
| 参考文献 | 第99-101页 |
| 第五章 无掩膜光刻系统的分析、实现与应用 | 第101-121页 |
| ·微位移执行器构成 | 第101-103页 |
| ·动态离焦源及特征分析 | 第103-105页 |
| ·调焦系统动态特性及实现 | 第105-108页 |
| ·全数字化转台与系统同步化 | 第108-113页 |
| ·系统硬件实现 | 第113-115页 |
| ·系统软件实现 | 第115-118页 |
| ·无掩膜光刻应用研究 | 第118-120页 |
| 参考文献 | 第120-121页 |
| 第六章 总结和展望 | 第121-124页 |
| ·本课题的总结 | 第121-122页 |
| ·对本课题相关内容的展望 | 第122-124页 |
| 在攻读博士学位期间所发表的相关论文 | 第124-125页 |
