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SPIC中器件的设计、模型及参数提取研究

摘  要第1-5页
Abstract第5-6页
目  录第6-8页
第一章 引  言第8-14页
   ·SPIC的研究现状与发展第8-10页
   ·器件模型与参数提取概述第10-13页
     ·器件模型的发展第10-12页
     ·模型参数提取简介第12-13页
   ·本文工作第13-14页
第二章 器件设计与器件模型第14-31页
   ·高压LDMOS的设计第14-23页
     ·概述第14-19页
     ·LDMOS的结构及设计要求第19-20页
     ·P衬底浓度和N阱浓度的确定第20-21页
     ·P-降场层浓度与长度的确定第21-22页
     ·导通电阻的模拟第22-23页
   ·LDMOS特性分析与等效电路模型第23-27页
     ·准饱和特性第23-24页
     ·准漏极相关特性第24-26页
     ·LDMOS等效电路模型第26-27页
   ·低压MOS的设计与模型第27-29页
     ·器件结构与模拟结果第28-29页
     ·模型的选取第29页
   ·本章小结第29-31页
第三章 器件模型参数提取第31-60页
   ·低压MOS模型介绍第31-44页
     ·电路模拟器与模型简介第31-37页
     ·SPICE MOS1、2、3、4级模型第37-44页
   ·低压MOS模型参数提取第44-52页
     ·AURORA软件简介第44-45页
     ·提取模型参数的步骤第45-47页
     ·提取过程及分析第47-52页
   ·MOS电容的提取第52-55页
   ·单管PCM的实现第55-57页
   ·高压LDMOS的参数提取第57-58页
   ·本章小结第58-60页
第四章 版图设计与工艺实验第60-69页
   ·工艺设计第60-62页
   ·版图设计第62-65页
     ·基准源及偏置电路版图第63页
     ·振荡器电路版图第63-64页
     ·测试单管版图第64页
     ·总体电路版图第64-65页
   ·流片测试结果与分析第65-68页
     ·低压器件的测试与分析第65-67页
     ·高压LDMOS的测试与分析第67-68页
   ·本章小结第68-69页
第五章 结论第69-71页
参考文献第71-73页
致谢第73-74页

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