压电陶瓷表面Ni-W-P合金化学镀
| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-8页 |
| 符号说明 | 第8-9页 |
| 第一章 前言 | 第9-10页 |
| 第二章 文献综述 | 第10-30页 |
| ·化学镀 | 第10-18页 |
| ·化学镀的机理研究 | 第10-12页 |
| ·化学镀溶液的成分及工艺条件的影响 | 第12-14页 |
| ·废液处理 | 第14页 |
| ·复合镀 | 第14-16页 |
| ·多元化学镀 | 第16-17页 |
| ·多元化学镀理论 | 第17-18页 |
| ·陶瓷的发展及应用 | 第18-20页 |
| ·压电陶瓷表面化学镀 | 第20-23页 |
| ·交流阻抗技术 | 第23-24页 |
| ·X射线光电子能谱 | 第24-26页 |
| ·X射线衍射 | 第26-27页 |
| ·差热分析法 | 第27-30页 |
| 第三章 实验方法和实验装置 | 第30-40页 |
| ·试样表面前处理 | 第30-32页 |
| ·化学镀液的筛选 | 第32-33页 |
| ·影响因素的研究 | 第32-33页 |
| ·正交设计筛选化学镀液 | 第33页 |
| ·化学镀镍钨磷装置 | 第33-34页 |
| ·镀层成分分析 | 第34-35页 |
| ·XPS测试 | 第34页 |
| ·分光光度法测定镀层的镍磷含量 | 第34-35页 |
| ·镀层的组织和结构 | 第35-36页 |
| ·镀层镀层的热处理 | 第36页 |
| ·镀层性能测试 | 第36-40页 |
| ·镀层的耐蚀性测量 | 第36页 |
| ·镀层的电化学测量 | 第36-40页 |
| 第四章 结果与讨论 | 第40-70页 |
| ·化学镀Ni-W-P配方筛选 | 第40-53页 |
| ·正交试验 | 第40页 |
| ·镀层性能的影响因素 | 第40-48页 |
| ·镀液稳定性测试 | 第48-49页 |
| ·镀层耐蚀性的测试 | 第49-51页 |
| ·镀层的沉积速率及结合强度 | 第51-53页 |
| ·镀层成分及含量的分析 | 第53-61页 |
| ·镀层的XPS分析 | 第53-56页 |
| ·分光光度法测试结果 | 第56-60页 |
| ·误差来源及控制 | 第60-61页 |
| ·镀层的结构 | 第61-62页 |
| ·镀层的晶型转变 | 第62-63页 |
| ·热处理对镀层性能的影响 | 第63-70页 |
| ·镀后试样 | 第63页 |
| ·镀层应力 | 第63-64页 |
| ·热处理温度对极化曲线的影响 | 第64-65页 |
| ·热处理温度对交流阻抗的影响 | 第65-66页 |
| ·热处理温度对镀层组织和结构的影响 | 第66-69页 |
| ·小结 | 第69-70页 |
| 第五章 存在问题及今后拟解决的方向 | 第70-71页 |
| 第六章 结论 | 第71-73页 |
| 参考文献 | 第73-78页 |
| 致谢 | 第78-79页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文目录 | 第79页 |
