硅/HF界面电化学特性研究

摘要	第1-5页
ABSTRACT	第5-6页
目录	第6-7页
第一章 绪论	第7-19页
·电化学加工技术介绍	第7-10页
·微电子机械系统及其微加工技术	第10-11页
·硅电化学刻蚀技术及硅微通道的应用	第11-16页
·国内外研究现状	第16-17页
·本文研究主要内容及研究意义	第17-19页
第二章 硅/HF界面电化学刻蚀相关原理	第19-30页
·半导体和电解液界面	第19-20页
·硅的基本性质	第20-21页
·硅电化学刻蚀阳极氧化原理	第21-22页
·硅/HF电化学刻蚀的相关模型	第22-25页
·电化学刻蚀工艺的装置	第25-28页
·表面活性剂介绍	第28-30页
第三章 硅通道形成实验以及理论分析	第30-38页
·硅电化学实验过程	第30-33页
·硅通道形成的理论分析	第33-35页
·传质效应对电化学刻蚀的影响	第35页
·暗电流分析	第35-38页
第四章 硅/HF的电化学参数特性分析	第38-46页
·HF浓度对于电化学刻蚀的影响	第38-40页
·乙醇的添加对于电化学实验的影响	第40-41页
·电压电流特性的分析	第41-43页
·光照强度对电化学刻蚀的影响	第43-44页
·温度对电化学刻蚀的影响	第44-46页
结论	第46-47页
致谢	第47-48页
参考文献	第48-50页