| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-17页 |
| 1.1 课题背景与研究价值 | 第9-11页 |
| 1.2 国内外微半球谐振陀螺仪研究情况 | 第11-15页 |
| 1.2.1 国外微半球谐振陀螺仪研究情况 | 第11-14页 |
| 1.2.2 国内微半球谐振陀螺仪研究情况 | 第14-15页 |
| 1.3 论文研究内容及意义 | 第15页 |
| 1.4 论文组织结构 | 第15-17页 |
| 第二章 微半球谐振陀螺仪工作原理与数学建模 | 第17-27页 |
| 2.1 微半球谐振陀螺仪的工作原理 | 第17-19页 |
| 2.2 微半球谐振陀螺仪的数学模型 | 第19-22页 |
| 2.2.1 基希霍夫-李雅夫假设 | 第20-21页 |
| 2.2.2 基希霍夫半球谐振子运动方程 | 第21-22页 |
| 2.3 微半球谐振陀螺仪位置激励 | 第22-23页 |
| 2.4 微半球谐振陀螺仪参数激励 | 第23-25页 |
| 2.5 本章小结 | 第25-27页 |
| 第三章 微半球谐振陀螺仪能量耗散与频率裂解机理分析 | 第27-39页 |
| 3.1 品质因数 | 第27-28页 |
| 3.2 微半球谐振陀螺仪能量耗散机理 | 第28-35页 |
| 3.2.1 声子作用与声电作用 | 第28页 |
| 3.2.2 热弹性阻尼 | 第28-31页 |
| 3.2.3 支撑损耗 | 第31-33页 |
| 3.2.4 空气阻尼 | 第33-34页 |
| 3.2.5 表面耗散 | 第34页 |
| 3.2.6 能量耗散总结 | 第34-35页 |
| 3.3 微半球谐振陀螺仪频率裂解机理 | 第35-38页 |
| 3.3.1 微半球谐振陀螺仪模态匹配 | 第35页 |
| 3.3.2 谐振子壳体密度不均匀产生的频率裂解 | 第35-36页 |
| 3.3.3 杨式模量不均匀引起的频率裂解 | 第36-37页 |
| 3.3.4 谐振子唇沿半径不均匀引起的频率裂解 | 第37-38页 |
| 3.4 本章小结 | 第38-39页 |
| 第四章 微半球谐振陀螺仪结构设计与误差分析 | 第39-47页 |
| 4.1 微半球谐振子材料选择 | 第39页 |
| 4.2 微半球谐振子结构设计 | 第39-41页 |
| 4.3 微半球谐振子加工误差分析 | 第41-44页 |
| 4.3.1 半球壳薄膜厚度误差分析 | 第41-42页 |
| 4.3.2 半球壳唇沿圆度误差分析 | 第42页 |
| 4.3.3 半球壳球度误差分析 | 第42-43页 |
| 4.3.4 支撑柱高度误差分析 | 第43页 |
| 4.3.5 支撑柱偏心误差分析 | 第43-44页 |
| 4.3.6 微半球谐振子加工误差分析总结 | 第44页 |
| 4.4 本章小结 | 第44-47页 |
| 第五章 微半球谐振陀螺仪工艺设计与优化研究 | 第47-67页 |
| 5.1 微半球谐振陀螺仪的加工工艺 | 第47-51页 |
| 5.1.1 微半球谐振陀螺仪加工工艺介绍 | 第47-48页 |
| 5.1.2 微半球谐振陀螺仪加工工艺流程 | 第48-51页 |
| 5.2 微半球模子的加工工艺与优化设计 | 第51-60页 |
| 5.2.1 微半球模子的加工工艺介绍 | 第51页 |
| 5.2.2 微半球模子SF_6干法刻蚀工艺 | 第51-53页 |
| 5.2.3 微半球模子HNA湿法刻蚀工艺 | 第53-60页 |
| 5.3 微半球壳的薄膜沉积加工工艺 | 第60-63页 |
| 5.3.1 薄膜沉积工艺介绍 | 第60页 |
| 5.3.2 微半球壳的薄膜沉积工艺选择及优化 | 第60-62页 |
| 5.3.3 微半球壳释放工艺 | 第62-63页 |
| 5.4 微半球谐振陀螺仪电极引线工艺优化设计 | 第63-66页 |
| 5.4.1 微半球谐振子圆周电极引线工艺优化 | 第63-65页 |
| 5.4.2 微半球谐振子公共电极引线工艺优化 | 第65-66页 |
| 5.5 微半球谐振子与电极装配 | 第66页 |
| 5.6 本章小结 | 第66-67页 |
| 第六章 总结与展望 | 第67-69页 |
| 6.1 总结 | 第67-68页 |
| 6.2 展望 | 第68-69页 |
| 致谢 | 第69-71页 |
| 参考文献 | 第71-77页 |
| 作者简介 | 第77页 |