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YBCO带材的MOCVD制备及均匀性研究

摘要第5-7页
abstract第7-9页
第一章 绪论第12-35页
    1.1 超导材料的简介第12-14页
    1.2 超导线(带)材的应用第14-15页
    1.3 高温超导带材的简介第15-20页
    1.4 YBCO高温超导带材的制备路线第20-26页
        1.4.1 双轴织构缓冲层的制备方法第20-24页
        1.4.2 超导层的制备方法第24-26页
    1.5 YBCO高温超导带材的研究现状第26-28页
    1.6 YBCO高温超导带材的发展趋势第28-33页
    1.7 论文选题依据及研究内容第33-35页
第二章 实验及表征方法第35-46页
    2.1 实验方法第35-40页
        2.1.1 MOCVD系统简介第35-38页
        2.1.2 YBCO带材的制备流程第38-40页
    2.2 表征方法第40-46页
        2.2.1 原子力显微镜第40-41页
        2.2.2 X射线衍射第41-42页
        2.2.3 扫描电子显微镜第42-43页
        2.2.4 能谱仪第43页
        2.2.5 台阶仪第43页
        2.2.6 性能检测第43-46页
第三章 MOCVD系统的优化及基带衬底的选择研究第46-59页
    3.1 MOCVD系统的优化第46-54页
        3.1.1 蒸发器的改进第46-50页
        3.1.2 加热电极的改进第50-53页
        3.1.3 冷凝单元的改进第53-54页
    3.2 不同基带衬底的对比研究第54-57页
    3.3 本章小结第57-59页
第四章 Y(Gd)BCO薄膜的MOCVD法制备研究第59-92页
    4.1 Y(Gd)BCO薄膜表面针状杂相的工艺优化第59-68页
    4.2 高Jc的Y(Gd)BCO薄膜制备研究第68-75页
        4.2.1 加热电流的影响第68-71页
        4.2.2 Cu/Ba比值对Y(Gd)BCO薄膜生长的影响第71-75页
    4.3 Y(Gd)BCO多层膜的制备研究第75-82页
    4.4 SmBCO/Y(Gd)BCO叠层结构薄膜的制备研究第82-86页
    4.5 Zr掺杂Y(Gd)BCO薄膜的制备研究第86-90页
    4.6 本章小结第90-92页
第五章 Y(Gd)BCO薄膜的高效低成本制备研究第92-109页
    5.1 不同基带加热方式的对比研究第92-96页
    5.2 Y(Gd)BCO薄膜的快速生长研究第96-101页
    5.3 窄流道反应腔的应用研究第101-108页
        5.3.1 新反应腔的设计与优化第101-103页
        5.3.2 基于窄流道反应腔的Y(Gd)BCO薄膜制备研究第103-108页
    5.4 本章小结第108-109页
第六章 Y(Gd)BCO薄膜制备的均匀性及稳定性研究第109-125页
    6.1 Y(Gd)BCO薄膜制备的横向均匀性研究第109-120页
        6.1.1 狭缝式喷淋头的应用研究第109-113页
        6.1.2 多孔式喷淋头的应用研究第113-117页
        6.1.3 窄流道反应腔的应用研究第117-120页
    6.2 Y(Gd)BCO长带材的制备研究第120-121页
    6.3 双面Y(Gd)BCO薄膜的制备研究第121-124页
    6.4 本章小结第124-125页
第七章 结论与创新点第125-129页
致谢第129-130页
参考文献第130-142页
攻读博士学位期间取得的成果第142-143页

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