| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第1章 绪论 | 第8-18页 |
| 1.1 课题背景及研究的目的和意义 | 第8-10页 |
| 1.2 电子束表面改性机理及研究进展 | 第10-11页 |
| 1.3 辐射传热概论 | 第11-16页 |
| 1.2.1 辐射传热的基本理论 | 第11-13页 |
| 1.3.2 物体的发射率 | 第13-14页 |
| 1.3.3 发射率的影响因素 | 第14-15页 |
| 1.3.4 高辐射涂层的研究进展 | 第15页 |
| 1.3.5 低辐射涂层的研究进展 | 第15-16页 |
| 1.4 辐射涂层的制备方法 | 第16-17页 |
| 1.4.1 等离子喷涂 | 第16页 |
| 1.4.2 化学气相沉积 | 第16-17页 |
| 1.4.3 磁控溅射 | 第17页 |
| 1.4.4 溶胶-凝胶 | 第17页 |
| 1.4.5 电子束物理气相沉积 | 第17页 |
| 1.5 本文的主要研究内容 | 第17-18页 |
| 第2章 试验材料及试验方法 | 第18-26页 |
| 2.1 试验材料 | 第18-19页 |
| 2.1.1 基材 | 第18-19页 |
| 2.1.2 涂层材料 | 第19页 |
| 2.2 试验设备及工艺 | 第19-23页 |
| 2.2.1 试验设备 | 第19-21页 |
| 2.2.2 涂层的制备工艺 | 第21-23页 |
| 2.3 涂层微观组织分析 | 第23-24页 |
| 2.3.1 表面粗糙度分析 | 第23页 |
| 2.3.2 X 射线衍射分析 | 第23-24页 |
| 2.3.3 扫描电子显微镜分析 | 第24页 |
| 2.3.4 拉曼光谱分析 | 第24页 |
| 2.4 涂层性能测试 | 第24-26页 |
| 2.4.1 热辐射性能测试 | 第24-25页 |
| 2.4.2 高温抗氧化性能测试 | 第25-26页 |
| 第3章 涂层结构及微观组织分析 | 第26-49页 |
| 3.1 原始 Nb-Si 涂层结构及微观组织分析 | 第26-29页 |
| 3.1.1 原始 Nb-Si 涂层表面形貌 | 第26-28页 |
| 3.1.2 原始 Nb-Si 涂层的微观组织分析 | 第28-29页 |
| 3.2 电子束熔覆 Nb-Si 涂层结构及微观组织分析 | 第29-32页 |
| 3.2.1 电子束熔敷 Nb-Si 涂层表面形貌 | 第29-31页 |
| 3.2.2 电子束熔敷 Nb-Si 涂层的微观组织分析 | 第31-32页 |
| 3.3 低辐射涂层结构及微观组织分析 | 第32-40页 |
| 3.3.1 电子束流对低辐射涂层结构及微观组织的影响 | 第32-36页 |
| 3.3.2 不同厚度的低辐射涂层结构及微观组织分析 | 第36-40页 |
| 3.4 高辐射涂层结构及微观组织分析 | 第40-47页 |
| 3.4.1 电子束流大小对涂层的结构及微观组织的影响 | 第40-44页 |
| 3.4.2 不同厚度的高辐射涂层结构及微观组织分析 | 第44-47页 |
| 3.5 本章小结 | 第47-49页 |
| 第4章 抗氧化及热辐射性能研究 | 第49-55页 |
| 4.1 热辐射性能研究 | 第49-50页 |
| 4.2 电子束熔敷涂层抗氧化性能研究 | 第50-53页 |
| 4.2.1 涂层高温抗氧化实验 | 第50-51页 |
| 4.2.2 涂层微观组织演变 | 第51-53页 |
| 4.3 本章小结 | 第53-55页 |
| 结论 | 第55-57页 |
| 参考文献 | 第57-63页 |
| 致谢 | 第63页 |
