| 致谢 | 第5-6页 |
| 摘要 | 第6-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 1 引言 | 第12-22页 |
| 1.1 2μm激光研究现状及意义 | 第12-13页 |
| 1.2 微结构光纤概述 | 第13-17页 |
| 1.2.1 微结构光纤分类 | 第13-14页 |
| 1.2.2 微结构光纤特性 | 第14-16页 |
| 1.2.3 微结构光纤应用 | 第16-17页 |
| 1.3 光纤光栅概述 | 第17-20页 |
| 1.3.1 一般光纤光栅概述 | 第17-18页 |
| 1.3.2 微结构光纤光栅研究现状及应用 | 第18-19页 |
| 1.3.3 双折射光纤光栅研究意义及现状 | 第19-20页 |
| 1.4 本文主要工作 | 第20-22页 |
| 2 双折射微结构光纤理论基础 | 第22-36页 |
| 2.1 双折射微结构光纤概述 | 第22-26页 |
| 2.1.1 双折射产生基本原理 | 第22页 |
| 2.1.2 已有的高双折射MOF结构 | 第22-25页 |
| 2.1.3 液体填充微结构光纤的研究 | 第25-26页 |
| 2.2 微结构光纤理论研究方法 | 第26-34页 |
| 2.2.1 常用数值计算方法 | 第26-28页 |
| 2.2.2 有限元法 | 第28页 |
| 2.2.3 平面电磁场问题的边界条件 | 第28-29页 |
| 2.2.4 平面电磁场有限元法 | 第29-32页 |
| 2.2.5 有限元法分析微结构光纤的基本思想 | 第32-33页 |
| 2.2.6 有限元软件Comsol Multiphysics仿真MOF步骤 | 第33-34页 |
| 2.3 本章小结 | 第34-36页 |
| 3 基于磁流体填充的微结构光纤 | 第36-56页 |
| 3.1 磁流体概述 | 第36-40页 |
| 3.1.1 磁流体概念 | 第36页 |
| 3.1.2 磁流体光学特性 | 第36-39页 |
| 3.1.3 磁流体材料填充技术 | 第39-40页 |
| 3.1.4 磁流体的应用 | 第40页 |
| 3.2 十孔微结构光纤 | 第40-44页 |
| 3.2.1 所选磁流体的参数 | 第40-41页 |
| 3.2.2 光纤横截面结构 | 第41页 |
| 3.2.3 双折射特性 | 第41-43页 |
| 3.2.4 X和Y偏振方向折射率差 | 第43-44页 |
| 3.3 四孔微结构光纤 | 第44-47页 |
| 3.3.1 光纤横截面结构 | 第44-45页 |
| 3.3.2 双折射特性 | 第45-46页 |
| 3.3.3 X和Y偏振方向折射率差 | 第46-47页 |
| 3.4 改进的四孔微结构光纤 | 第47-54页 |
| 3.4.1 所选磁流体的参数 | 第47-48页 |
| 3.4.2 双折射特性 | 第48-51页 |
| 3.4.3 X和Y偏振方向折射率差 | 第51-53页 |
| 3.4.4 限制损耗特性 | 第53-54页 |
| 3.5 三种结构对比分析 | 第54页 |
| 3.6 光纤设计误差分析 | 第54-55页 |
| 3.7 本章小结 | 第55-56页 |
| 4 基于磁流体的双折射微结构光纤光栅 | 第56-74页 |
| 4.1 双折射光纤光栅理论分析 | 第56-62页 |
| 4.1.1 耦合模方程 | 第56-58页 |
| 4.1.2 相同偏振态之间的模式耦合 | 第58-60页 |
| 4.1.3 不同偏振态之间的模式耦合 | 第60-61页 |
| 4.1.4 双折射光纤光栅的谱线特性 | 第61-62页 |
| 4.2 保偏布拉格光纤光栅 | 第62-67页 |
| 4.2.1 理论模型 | 第62页 |
| 4.2.2 数值模拟结果及分析 | 第62-65页 |
| 4.2.3 外磁场对保偏布拉格光栅的调谐作用 | 第65-67页 |
| 4.3 相移光纤光栅 | 第67-71页 |
| 4.3.1 理论模型 | 第67-68页 |
| 4.3.2 数值模拟结果及分析 | 第68-71页 |
| 4.3.3 外磁场对相移光栅的调谐作用 | 第71页 |
| 4.4 本章小结 | 第71-74页 |
| 5 结论 | 第74-76页 |
| 5.1 本文主要研究内容 | 第74-75页 |
| 5.2 目前存在的问题和未来展望 | 第75-76页 |
| 参考文献 | 第76-80页 |
| 作者简历及攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第80-84页 |
| 学位论文数据集 | 第84页 |