| 摘要 | 第4-5页 |
| abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-15页 |
| 1.1 课题的研究背景及意义 | 第9-10页 |
| 1.2 气敏传感器的简介 | 第10-13页 |
| 1.2.1 气敏传感器的检测机理和分类 | 第10-13页 |
| 1.2.2 金属氧化物半导体气敏传感器 | 第13页 |
| 1.3 本论文的研究目的和内容 | 第13-15页 |
| 第2章 二氧化钒概述 | 第15-26页 |
| 2.1 二氧化钒相变特性 | 第15-17页 |
| 2.1.1 二氧化钒相变晶体学特征 | 第15-16页 |
| 2.1.2 二氧化钒相变能带结构变化 | 第16页 |
| 2.1.3 二氧化钒相变电学性质 | 第16-17页 |
| 2.2 二氧化钒制备方法 | 第17-19页 |
| 2.2.1 溅射法 | 第17-18页 |
| 2.2.2 溶胶-凝胶法 | 第18页 |
| 2.2.3 真空蒸发法 | 第18页 |
| 2.2.4 脉冲沉积法 | 第18-19页 |
| 2.3 二氧化钒薄膜的应用 | 第19-21页 |
| 2.3.1 智能窗 | 第19-20页 |
| 2.3.2 光存储 | 第20页 |
| 2.3.3 光电开关 | 第20页 |
| 2.3.4 激光防护 | 第20-21页 |
| 2.4 二氧化钒薄膜甲烷传感器 | 第21-23页 |
| 2.4.1 二氧化钒薄膜传感器吸附机理 | 第21-22页 |
| 2.4.2 二氧化钒薄膜传感器掺杂贵金属原理 | 第22页 |
| 2.4.3 二氧化钒薄膜传感器气敏性能指标 | 第22-23页 |
| 2.5 二氧化钒薄膜测试手段分析 | 第23-26页 |
| 2.5.1 相变测试系统 | 第23-24页 |
| 2.5.2 XRD对薄膜晶体结构分析 | 第24-25页 |
| 2.5.3 SEM对薄膜表面形貌分析 | 第25页 |
| 2.5.4 气敏测试系统 | 第25-26页 |
| 第3章 二氧化钒薄膜的制备 | 第26-34页 |
| 3.1 实验设备的介绍 | 第26-30页 |
| 3.1.1 磁控溅射镀膜机 | 第26-27页 |
| 3.1.2 溅射掺杂贵金属仪器 | 第27-29页 |
| 3.1.3 快速热处理炉 | 第29-30页 |
| 3.2 贵金属掺杂二氧化钒薄膜的制备 | 第30-33页 |
| 3.2.1 陶瓷片基底的清洗 | 第30-31页 |
| 3.2.2 溅射插指 Pt 电极 | 第31页 |
| 3.2.3 淀积金属钒薄膜 | 第31-32页 |
| 3.2.4 掺杂贵金属 | 第32页 |
| 3.2.5 快速热处理金属钒薄膜 | 第32-33页 |
| 3.3 本章小结 | 第33-34页 |
| 第4章 二氧化钒薄膜对甲烷气敏性能的研究 | 第34-56页 |
| 4.1 掺杂贵金属金对甲烷气敏性能研究 | 第34-46页 |
| 4.1.1 掺金淀积35分钟二氧化钒薄膜对甲烷气敏性能研究 | 第34-39页 |
| 4.1.2 掺金淀积20分钟二氧化钒薄膜对甲烷气敏性能研究 | 第39-43页 |
| 4.1.3 掺金淀积10分钟二氧化钒薄膜对甲烷气敏性能研究 | 第43-46页 |
| 4.2 掺杂贵金属铂对甲烷气敏性能研究 | 第46-52页 |
| 4.2.1 掺铂淀积20分钟二氧化钒薄膜对甲烷气敏性能研究 | 第46-49页 |
| 4.2.2 掺铂淀积10分钟二氧化钒薄膜对甲烷气敏性能研究 | 第49-52页 |
| 4.3 同时掺杂贵金属金/铂对甲烷的气敏性能研究 | 第52-54页 |
| 4.4 本章小结 | 第54-56页 |
| 第5章 实验总结与展望 | 第56-59页 |
| 5.1 实验总结 | 第56-57页 |
| 5.2 工作展望 | 第57-59页 |
| 参考文献 | 第59-63页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第63-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
