| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-20页 |
| 1.1 前言 | 第10-11页 |
| 1.2 空化腐蚀 | 第11-12页 |
| 1.2.1 空化腐蚀现象 | 第11页 |
| 1.2.2 空化腐蚀机理研究 | 第11-12页 |
| 1.3 空化腐蚀破坏研究方法 | 第12-17页 |
| 1.3.1 空蚀破坏程度研究 | 第12-13页 |
| 1.3.2 形貌结构和组成分析 | 第13-15页 |
| 1.3.3 表面力学性质 | 第15页 |
| 1.3.4 电化学 | 第15-17页 |
| 1.4 钛及钛合金的空蚀研究 | 第17-19页 |
| 1.5 本课题的研究内容和意义 | 第19-20页 |
| 第二章 实验方法 | 第20-27页 |
| 2.1 实验材料 | 第20页 |
| 2.2 空化腐蚀模拟实验 | 第20页 |
| 2.3 检测方法 | 第20-26页 |
| 2.3.1 质量测试 | 第20-22页 |
| 2.3.2 表面粗糙度和轮廓 | 第22页 |
| 2.3.3 表面形貌观察 | 第22-23页 |
| 2.3.4 扫描开尔文探针测试（skp） | 第23-24页 |
| 2.3.5 表面残余应力和硬度测试 | 第24-25页 |
| 2.3.6 电化学测试 | 第25-26页 |
| 2.4 技术路线 | 第26-27页 |
| 第三章 TA2初期空化腐蚀阶段和组织结构的影响 | 第27-38页 |
| 3.1 前言 | 第27页 |
| 3.2 结果与讨论 | 第27-34页 |
| 3.2.1 质量损失 | 第27-29页 |
| 3.2.2 材料空化腐蚀粗糙度和深度变化分析 | 第29-31页 |
| 3.2.3 材料表面空化腐蚀微观形貌观察 | 第31-34页 |
| 3.3 纯钛在LiBr溶液中空化腐蚀破坏阶段 | 第34-36页 |
| 3.4 小结 | 第36-38页 |
| 第四章 空蚀对TA2表面钝化膜破裂和再生长的影响研究 | 第38-54页 |
| 4.1 前言 | 第38页 |
| 4.2 实验结果 | 第38-52页 |
| 4.2.1 开路电位测试曲线 | 第38-39页 |
| 4.2.2 极化曲线测试 | 第39-41页 |
| 4.2.3 交流阻抗测试 | 第41-46页 |
| 4.2.4 半导体特征分析 | 第46-49页 |
| 4.2.5 电流时间曲线 | 第49-52页 |
| 4.3 空化腐蚀对TA2钝化膜的影响 | 第52页 |
| 4.4 小结 | 第52-54页 |
| 第五章 TA2空化腐蚀过程中力学与腐蚀的交互作用 | 第54-70页 |
| 5.1 前言 | 第54页 |
| 5.2 实验结果 | 第54-67页 |
| 5.2.1 残余应力测试 | 第54-55页 |
| 5.2.2 硬度测试 | 第55-56页 |
| 5.2.3 开路电位测试 | 第56-57页 |
| 5.2.4 动电位极化曲线测试 | 第57-61页 |
| 5.2.5 形貌结构分析 | 第61-63页 |
| 5.2.6 扫描开尔文探针（skp）测试 | 第63-67页 |
| 5.3 空化腐蚀作用机理探究 | 第67-68页 |
| 5.4 小结 | 第68-70页 |
| 第六章 结论 | 第70-72页 |
| 参考文献 | 第72-78页 |
| 攻读硕士期间发表论文 | 第78-79页 |
| 致谢 | 第79-80页 |