| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 1 绪论 | 第8-18页 |
| 1.1 PZT厚膜简介 | 第8-12页 |
| 1.1.1 PZT材料的结构及性能 | 第8-9页 |
| 1.1.2 PZT厚膜的制备方法 | 第9-11页 |
| 1.1.3 PZT厚膜的应用 | 第11-12页 |
| 1.2 电射流沉积技术简介 | 第12-17页 |
| 1.2.1 电射流沉积技术原理 | 第12-15页 |
| 1.2.2 电射流沉积技术应用 | 第15-17页 |
| 1.3 课题的提出及研究内容 | 第17-18页 |
| 2 压电膜结构极化装置构建及PZT浆料配制 | 第18-28页 |
| 2.1 压电膜结构极化装置设计 | 第18-20页 |
| 2.2 压电膜结构极化装置构建 | 第20页 |
| 2.3 PZT悬浮液的制备及性质表征 | 第20-23页 |
| 2.3.1 PZT悬浮液的制备 | 第20-22页 |
| 2.3.2 PZT悬浮液的性质表征 | 第22-23页 |
| 2.4 PZT厚膜的性能表征 | 第23-27页 |
| 2.4.1 PZT厚膜的铁电性能表征 | 第23-24页 |
| 2.4.2 PZT厚膜的介电性能表征 | 第24页 |
| 2.4.3 PZT厚膜的压电性能表征 | 第24-27页 |
| 2.5 本章小结 | 第27-28页 |
| 3 硅衬底PZT厚膜电射流沉积制备及表征 | 第28-43页 |
| 3.1 PZT厚膜制备工艺流程 | 第28-29页 |
| 3.2 氧化锆缓冲层制备 | 第29页 |
| 3.3 PZT厚膜的电射流沉积 | 第29-32页 |
| 3.3.1 PZT悬浮液配比对PZT厚膜致密性的影响 | 第29-31页 |
| 3.3.2 PZT悬浮液球磨时间对PZT厚膜致密性的影响 | 第31-32页 |
| 3.4 PZT厚膜的溶胶渗透 | 第32-33页 |
| 3.5 PZT厚膜的退火 | 第33-37页 |
| 3.5.1 不同退火温度对PZT厚膜晶相和微观结构影响 | 第34-36页 |
| 3.5.2 不同退火时间对PZT厚膜晶相和微观结构影响 | 第36-37页 |
| 3.6 PZT厚膜电学性能表征 | 第37-42页 |
| 3.6.1 PZT厚膜铁电性能表征 | 第39页 |
| 3.6.2 PZT厚膜介电性能表征 | 第39-41页 |
| 3.6.3 PZT厚膜压电性能表征 | 第41-42页 |
| 3.7 本章小结 | 第42-43页 |
| 4 无衬底PZT厚膜制备及表征 | 第43-52页 |
| 4.1 无衬底PZT厚膜制备 | 第43页 |
| 4.2 无衬底PZT厚膜的极化 | 第43-44页 |
| 4.3 无衬底PZT厚膜的电学性能分析 | 第44-48页 |
| 4.4 PZT纤维的退火 | 第48-49页 |
| 4.5 PZT纤维的极化性能分析 | 第49-51页 |
| 4.5.1 极化场强对压电性能影响 | 第49-50页 |
| 4.5.2 极化温度对压电性能影响 | 第50-51页 |
| 4.5.3 极化时间对压电性能影响 | 第51页 |
| 4.6 本章小结 | 第51-52页 |
| 结论 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-59页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第59-60页 |
| 致谢 | 第60-62页 |
