电致化学抛光中的物料平衡问题研究
| 摘要 | 第2-3页 |
| Abstract | 第3页 |
| 1 绪论 | 第7-20页 |
| 1.1 课题背景 | 第7-9页 |
| 1.2 铜抛光技术发展现状 | 第9-11页 |
| 1.2.1 化学机械抛光 | 第9-10页 |
| 1.2.2 电化学抛光 | 第10-11页 |
| 1.3 电致化学抛光技术 | 第11-19页 |
| 1.3.1 电致化学抛光的基本原理 | 第11-14页 |
| 1.3.2 电致化学抛光关键技术 | 第14-15页 |
| 1.3.3 电致化学抛光实验系统 | 第15-19页 |
| 1.4 课题来源与本文研究内容 | 第19-20页 |
| 2 加工参数及物料扩散对于加工的影响 | 第20-34页 |
| 2.1 加工参数的影响 | 第20-25页 |
| 2.1.1 抛光液PH的影响 | 第20-21页 |
| 2.1.2 前躯体浓度对于加工的影响 | 第21-23页 |
| 2.1.3 其他参数对于加工的影响 | 第23-25页 |
| 2.2 抛光液中铜离子浓度对于抛光效果的影响 | 第25-27页 |
| 2.2.1 加工效率 | 第26-27页 |
| 2.2.2 表面粗糙度 | 第27页 |
| 2.3 铜离子浓度对于刻蚀过程影响的原因 | 第27-33页 |
| 2.4 本章小结 | 第33-34页 |
| 3 扩散条件的改善 | 第34-44页 |
| 3.1 电极抬起 | 第34-37页 |
| 3.1.1 加工效率 | 第35-36页 |
| 3.1.2 表面粗糙度 | 第36-37页 |
| 3.2 电极刻槽 | 第37-43页 |
| 3.3 本章小结 | 第43-44页 |
| 4 大面积电致化学抛光原型系统研制 | 第44-54页 |
| 4.1 调平方法 | 第45-48页 |
| 4.1.1 电极支撑水平调平 | 第45-47页 |
| 4.1.2 工件表面与电极支撑面调平 | 第47-48页 |
| 4.2 原型系统的设计搭建及实验 | 第48-53页 |
| 4.2.1 实验平台 | 第48-51页 |
| 4.2.2 刻蚀试验 | 第51-53页 |
| 4.3 本章小结 | 第53-54页 |
| 结论 | 第54-56页 |
| 参考文献 | 第56-59页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第59-60页 |
| 致谢 | 第60-62页 |
