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原子层沉积Al2O3薄膜对单晶硅表面钝化机制的研究

摘要第4-5页
Abstract第5页
1 引言第8-11页
2 硅太阳能电池原理及硅表面钝化第11-33页
    2.1 硅太阳能电池原理第11-15页
        2.1.1 平衡载流子与非平衡载流子第11页
        2.1.2 pn结第11-12页
        2.1.3 光生伏特第12-13页
        2.1.4 硅太阳能电池第13-15页
        2.1.5 非平衡载流子复合第15页
    2.2 硅太阳能电池表面钝化第15-25页
        2.2.1 硅片表面第16-18页
        2.2.2 硅片表面钝化机理第18-19页
        2.2.3 表面钝化在太阳能电池领域的应用第19-20页
        2.2.4 用于表面钝化的薄膜材料第20-25页
    2.3 Al_2O_3薄膜的生长方法第25-28页
        2.3.1 PECVD第25-26页
        2.3.2 ALD第26-28页
    2.4 Al_2O_3薄膜的性质及钝化机理第28-29页
    2.5 Al_2O_3薄膜运用于太阳能电池第29-33页
        2.5.1 Al_2O_3薄膜在p型太阳电池中的应用第29-30页
        2.5.2 Al_2O_3薄膜在n型太阳电池中的应用第30-33页
3 沉积温度对Al_2O_3薄膜表面钝化效果的影响第33-42页
    3.1 TMA+O_3第35-37页
    3.2 TMA+H_2O_3第37-41页
    3.3 本章小结第41-42页
4 Al_2O_3薄膜对不同导电类型c-Si钝化效果的影响第42-56页
    4.1 Al_2O_3薄膜制备第42页
    4.2 结果分析第42-55页
        4.2.1 FESEM第42-44页
        4.2.2 XRD第44-47页
        4.2.3 反射谱第47-48页
        4.2.4 少数载流子有效寿命第48-55页
    4.3 本章小结第55-56页
结论与展望第56-57页
参考文献第57-63页
攻读硕士学位期间发表学术论文情况第63-64页
致谢第64-65页

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