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标准CMOS工艺下面向超高频电子标签芯片的非易失存储器研究与实现

摘要第9-10页
ABSTRACT第10页
第一章 绪论第11-16页
    1.1 课题背景与意义第11-12页
    1.2 国内外研究现状第12-14页
    1.3 主要工作内容与创新点第14页
    1.4 论文组织结构第14-16页
第二章 超高频电子标签芯片中非易失存储器系统设计第16-24页
    2.1 超高频电子标签芯片系统结构第16-18页
    2.2 非易失存储器指标分析第18-20页
    2.3 非易失存储器系统设计第20-23页
    2.4 本章小结第23-24页
第三章 标准CMOS工艺非易失存储器内核设计第24-38页
    3.1 存储单元设计第24-34页
        3.1.1 存储单元原理分析第24-27页
        3.1.2 存储单元结构设计第27-28页
        3.1.3 TCAD建模仿真分析第28-33页
        3.1.4 存储单元设计总结第33-34页
    3.2 存储阵列设计第34-36页
    3.3 本章小结第36-38页
第四章 标准CMOS工艺非易失存器外围电路设计第38-61页
    4.1 控制电路第38-41页
    4.2 地址译码器第41-43页
        4.2.1 行译码器设计第41-42页
        4.2.2 列译码器设计第42-43页
    4.3 电荷泵第43页
    4.4 电压切换模块第43-53页
        4.4.1 行电压切换模块第44-51页
        4.4.2 列电压切换模块第51-53页
    4.5 灵敏放大器第53-55页
    4.6 仿真与分析第55-58页
    4.7 本章小结第58-61页
第五章 流片实现与测试第61-70页
    5.1 流片实现第61-62页
    5.2 测试方案第62-65页
        5.2.1 存储器测试方案第62-64页
        5.2.2 存储单元测试方案第64-65页
    5.3 测试与分析第65-69页
    5.4 小结第69-70页
第六章 总结与展望第70-72页
致谢第72-74页
参考文献第74-78页
作者在学期间取得的学术成果第78页

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