| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-13页 |
| 1.1 引言 | 第8-10页 |
| 1.2 人工金刚石膜发展历史 | 第10-12页 |
| 1.3 本章小结 | 第12-13页 |
| 第二章 HFCVD金刚石涂层设备工作原理 | 第13-17页 |
| 2.1 HFCVD金刚石涂层内部反应机理 | 第13页 |
| 2.2 HFCVD金刚石涂层设备基本结构 | 第13-15页 |
| 2.3 本章小结 | 第15-17页 |
| 第三章 HFCVD金刚石涂层设备系统设计 | 第17-54页 |
| 3.1 HFCVD金刚石涂层设备加热系统的设计 | 第17-18页 |
| 3.2 绝缘密封电极装置的设计 | 第18-22页 |
| 3.3 绝缘密封电极装置电、热、结构仿真计算以及绝缘性能验证 | 第22-32页 |
| 3.4 HFCVD金刚石涂层设备测温系统的设计 | 第32页 |
| 3.5 HFCVD金刚石涂层设备密封系统的设计 | 第32-36页 |
| 3.6 HFCVD金刚石涂层设备冷却系统的设计 | 第36-37页 |
| 3.7 HFCVD金刚石涂层设备热丝拉紧装置的设计 | 第37-42页 |
| 3.8 热丝拉紧装置的拉伸参数计算分析 | 第42-52页 |
| 3.9 本章小结 | 第52-54页 |
| 第四章 反应腔体温度场的仿真模拟与冷却系统的计算分析 | 第54-83页 |
| 4.1 HFCVD金刚石涂层设备腔体温度场的理论基础 | 第54-60页 |
| 4.2 HFCVD金刚石涂层设备腔体温度场的仿真模拟 | 第60-65页 |
| 4.3 HFCVD金刚石涂层设备腔体冷却系统的仿真模拟与计算分析 | 第65-81页 |
| 4.4 本章小结 | 第81-83页 |
| 第五章 总结与展望 | 第83-86页 |
| 5.1 总结 | 第83-84页 |
| 5.2 展望 | 第84-86页 |
| 参考文献 | 第86-91页 |
| 致谢 | 第91-93页 |
| 附录1攻读硕士期间科研成果 | 第93页 |
