利用刻蚀和椭偏技术研究离子注入铌酸锂晶体的波导特性
| 中文摘要 | 第1-14页 |
| ABSTRACT | 第14-20页 |
| 符号说明 | 第20-21页 |
| 第一章 绪论 | 第21-33页 |
| 参考文献 | 第29-33页 |
| 第二章 离子注入光波导的实验方法 | 第33-46页 |
| ·离子注入技术 | 第33-37页 |
| ·棱镜耦合原理 | 第37-39页 |
| ·平面波导折射率分布拟合方法—反射计算法 | 第39-41页 |
| ·刻蚀技术 | 第41-44页 |
| 参考文献 | 第44-46页 |
| 第三章 椭圆偏振技术 | 第46-91页 |
| ·椭圆偏振仪简介 | 第46-49页 |
| ·各向同性多层反射系统的椭偏参数的计算 | 第49-53页 |
| ·光在各向同性吸收介质分界面的反射和折射 | 第53-62页 |
| ·分层均匀的透明单轴晶体的椭偏参数 | 第62-73页 |
| ·光在单轴吸收晶体表面的反射和折射 | 第73-82页 |
| ·光在双轴吸收晶体表面的反射和折射 | 第82-88页 |
| ·本章小结 | 第88-89页 |
| 参考文献 | 第89-91页 |
| 第四章 氧离子注入LN晶体折射率分布研究 | 第91-109页 |
| ·3MEV氧离子注入LN晶体折射率分布 | 第91-98页 |
| ·3MEV氧离子注入掺镁LN晶体折射率分布 | 第98-103页 |
| ·多能量氧离子注入LN晶体折射率分布 | 第103-107页 |
| ·本章小结 | 第107页 |
| 参考文献 | 第107-109页 |
| 第五章 氧离子注入LN晶体刻蚀规律研究 | 第109-125页 |
| ·单能量氧离子注入LN晶体的刻蚀规律 | 第109-113页 |
| ·单能量氧离子注入掺镁LN晶体的刻蚀规律 | 第113-117页 |
| ·双能量氧离子注入LN晶体的刻蚀规律 | 第117-121页 |
| ·多能量氧离子注入LN晶体的刻蚀规律 | 第121-123页 |
| ·本章小结 | 第123页 |
| 参考文献 | 第123-125页 |
| 第六章 碳离子注入LN晶体刻蚀规律研究 | 第125-140页 |
| ·小剂量碳离子注入LN晶体 | 第125-130页 |
| ·大剂量碳离子注入LN晶体 | 第130-138页 |
| ·本章小结 | 第138页 |
| 参考文献 | 第138-140页 |
| 第七章 硅和镍离子注入LN晶体刻蚀规律研究 | 第140-152页 |
| ·硅离子注入LN晶体的刻蚀规律 | 第140-144页 |
| ·镍离子注入LN晶体的刻蚀规律 | 第144-147页 |
| ·刻蚀规律总结和讨论 | 第147-150页 |
| ·本章小结 | 第150页 |
| 参考文献 | 第150-152页 |
| 第八章 大剂量H离子注入LN晶体波导结构研究 | 第152-161页 |
| ·退火对H离子注入LN晶体波导的影响 | 第152-157页 |
| ·H离子注入LN晶体的刻蚀规律 | 第157-160页 |
| ·本章小结 | 第160页 |
| 参考文献 | 第160-161页 |
| 第九章 总结和展望 | 第161-165页 |
| ·主要结果 | 第161-163页 |
| ·主要创新点 | 第163-164页 |
| ·后续工作展望 | 第164-165页 |
| 致谢 | 第165-167页 |
| 攻读学位期间发表论文目录 | 第167-169页 |
| 附两篇已发表的英文文章 | 第169-179页 |
| 学位论文评阅及答辩情况表 | 第179页 |
