基于数字掩模光快速成形技术的微光学元件制作工艺研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-19页 |
| ·引言 | 第9-10页 |
| ·微光学制作工艺及应用发展趋势 | 第10-14页 |
| ·微光学制作工艺状况 | 第10-13页 |
| ·微光学应用发展趋势 | 第13-14页 |
| ·数字掩模光快速成形技术的应用发展 | 第14-17页 |
| ·快速成形技术在微细加工领域应用现状 | 第14-15页 |
| ·数字掩模在光快速成形技术中的应用 | 第15-17页 |
| ·论文主要内容及安排 | 第17-19页 |
| ·论文主要内容 | 第17-18页 |
| ·论文结构安排 | 第18-19页 |
| 第2章 实验系统的硬件改进及性能分析 | 第19-28页 |
| ·系统的构成及工作原理 | 第19-20页 |
| ·系统的构成 | 第19-20页 |
| ·系统的工作原理 | 第20页 |
| ·系统的改进及性能分析 | 第20-28页 |
| ·光路的改进 | 第20-22页 |
| ·系统的性能分析 | 第22-28页 |
| 第3章 数字掩模光快速成形工艺研究 | 第28-38页 |
| ·工艺流程 | 第28-30页 |
| ·工艺制作环境的选择 | 第30页 |
| ·约束液面式涂层工艺研究 | 第30-34页 |
| ·涂层工艺的选取 | 第30-31页 |
| ·约束液面涂层工艺原理 | 第31页 |
| ·约束液面涂层方案及工艺过程 | 第31页 |
| ·光窗与固化树脂的剥脱工艺 | 第31-34页 |
| ·光敏树脂的选择 | 第34-36页 |
| ·光敏树脂的组成及光聚合过程 | 第34-35页 |
| ·光敏树脂的特性要求 | 第35-36页 |
| ·关键制作工艺 | 第36-38页 |
| 第4章 关键工艺的实验研究 | 第38-46页 |
| ·固化光路调节及光斑质量测试 | 第38-40页 |
| ·固化光路调节 | 第38-39页 |
| ·光斑质量测试 | 第39-40页 |
| ·光敏树脂曝光量阈值及透射深度测定 | 第40-46页 |
| ·光敏树脂的固化特性 | 第41-42页 |
| ·光敏树脂曝光量阈值及透射深度的测量原理 | 第42-43页 |
| ·实验装置及测量步骤 | 第43-44页 |
| ·实验结果及讨论 | 第44-46页 |
| 第5章 器件制作及误差评估 | 第46-58页 |
| ·龙基光栅的制作 | 第46-48页 |
| ·菲涅耳透镜的制作 | 第48-49页 |
| ·闪耀光栅的制作 | 第49-52页 |
| ·实验小结 | 第52页 |
| ·误差评估 | 第52-58页 |
| ·硬件系统误差 | 第52-56页 |
| ·制作工艺误差 | 第56-58页 |
| 第6章 总结与展望 | 第58-61页 |
| ·论文总结 | 第58-59页 |
| ·工作成果及创新 | 第59页 |
| ·论文工作展望 | 第59-61页 |
| 参考文献 | 第61-65页 |
| 发表论文和参加科研情况 | 第65-66页 |
| 致谢 | 第66-67页 |
